Fournisseur: Annealsys
7 marchés publics archivés
Annealsys est historiquement un fournisseur de machines industrielles, machines diverses à usage général et à usage spécial et machines, appareils, équipements et consommables électriques; éclairage.
Historiquement, les soumissionnaires concurrents ont été Accelonix, AET Technologies, Beneq, Corial, Eden Instruments, Fondis Electronic, Kep Technologies/Setaram, Lay Concept et LFG Distribution.
Marchés publics récents dans lesquels le fournisseur Annealsys est mentionné
2025-02-18
Acquisition d'une machine de dépôt chimique en phase vapeur par injection liquide (DLI-CVD) (CNRS-Délégation Centre-Est)
L’Unité Mixte de Recherche CNRS n°6174 (FEMTO-ST) souhaite acquérir une machine de dépôt chimique en phase vapeur par injection de liquide, capable de répondre aux exigences avancée en matière de dépôt de couches minces (oxydes et métaux nobles), de croissance de couches minces d’épaisseur atomique contrôlée et conforme sur des structures 3D (ALD), de procédés CVD/ALD assistés par plasma micro-ondes, ainsi que le traitement thermique rapide, pour des applications scientifiques et de recherche et développement. Voir la passation de marché »
L’Unité Mixte de Recherche CNRS n°6174 (FEMTO-ST) souhaite acquérir une machine de dépôt chimique en phase vapeur par injection de liquide, capable de répondre aux exigences avancée en matière de dépôt de couches minces (oxydes et métaux nobles), de croissance de couches minces d’épaisseur atomique contrôlée et conforme sur des structures 3D (ALD), de procédés CVD/ALD assistés par plasma micro-ondes, ainsi que le traitement thermique rapide, pour des applications scientifiques et de recherche et développement. Voir la passation de marché »
2025-01-31
Acquisition d'un four de recuit thermique (RTA) (CNRS délégation régionale Hauts-de-France)
Acquisition, livraison, installation et mise en service d’un four de recuit thermique rapide (sigle RTA en anglais) pour le laboratoire IEMN Voir la passation de marché »
Acquisition, livraison, installation et mise en service d’un four de recuit thermique rapide (sigle RTA en anglais) pour le laboratoire IEMN Voir la passation de marché »
2021-12-02
acquisition d'un réacteur MOCVD à injection pulsée (Institut polytechnique de Grenoble)
acquisition d'un réacteur MOCVD à injection pulsée Voir la passation de marché »
acquisition d'un réacteur MOCVD à injection pulsée Voir la passation de marché »
2018-01-29
Fourniture d'équipements pour le Centre d'études et de recherche technologiques en microélectronique CERTEM 2020 5 Tranche (Université François Rabelais de Tours)
Le présent marché a pour objet la fourniture, la livraison, l'installation, la mise en service et la formation à l'utilisation des différents équipements destinés au Centre d'études et de recherches technologiques en microélectronique (CERTEM) phase 2020, dans le cadre de la cinquième tranche d'acquisition (5 tranche). Voir la passation de marché »
Le présent marché a pour objet la fourniture, la livraison, l'installation, la mise en service et la formation à l'utilisation des différents équipements destinés au Centre d'études et de recherches technologiques en microélectronique (CERTEM) phase 2020, dans le cadre de la cinquième tranche d'acquisition (5 tranche). Voir la passation de marché »
2016-05-19
Acquisition d'un bâti de dépôt par couche atomique (Ald) de films minces d'oxydes ternaires de structure pérovskite (Université de Versailles Saint-Quentin)
Le présent marché à pour objet l'acquisition d'un bâti de dépôt par couche atomique (Ald) de films minces d'oxydes ternaires de structure pérovskite pour le laboratoire GEMAC de l'université de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines. Voir la passation de marché »
Le présent marché à pour objet l'acquisition d'un bâti de dépôt par couche atomique (Ald) de films minces d'oxydes ternaires de structure pérovskite pour le laboratoire GEMAC de l'université de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines. Voir la passation de marché »
2011-10-03
Machine neuve de dépôt chimique de couches atomiques avec plasma (PE-ALD) (CNRS - délégation Midi-Pyrénées)
Machine neuve de dépôt chimique de couches atomiques avec plasma (PE-ALD). Voir la passation de marché »
Machine neuve de dépôt chimique de couches atomiques avec plasma (PE-ALD). Voir la passation de marché »
2011-04-14
Equipement de dépôt de couche atomique couplé à une boite à gants (CEA/Grenoble)
Il s’agit d’un équipement ALD (atomic layer deposition) qui sera dédié aux dépôts nanométriques des couches ultra barrières. Afin d’assurer une utilisation optimale, cet équipement est couplé à une boite à gant. L’objectif principal est d’encapsuler des composants comme les microbatteries au lithium qui sont très sensibles à l’air. Voir la passation de marché »
Il s’agit d’un équipement ALD (atomic layer deposition) qui sera dédié aux dépôts nanométriques des couches ultra barrières. Afin d’assurer une utilisation optimale, cet équipement est couplé à une boite à gant. L’objectif principal est d’encapsuler des composants comme les microbatteries au lithium qui sont très sensibles à l’air. Voir la passation de marché »