2011-04-26Piste de dépôt de 2 passivations pour wafer silicium 200 mm (CEA/Grenoble)
Dans le cadre de ses activités de recherche le LITEN-DTNM souhaite s’équiper d’une piste de dépôt de 2 passivations pour wafer silicium 200 mm avec des pompes de dispense pour deux passivations, pour les détourages, et pour les nettoyages de face arrière et des plaques chauffantes jusqu’à 250 deg C. De plus, l’équipement devra inclure des stations de refroidissement.
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2011-04-22Equipement d’oxydation de wafers silicium de 200 millimètres de diamètre (CEA/Grenoble)
Le CEA souhaite acheter un équipement d’oxydation de wafer de silicium de 200 millimètres de diamètre. Le tube sera préférentiellement vertical.
L’équipement doit permettre d’atteindre des températures d’oxydation de valeur supérieure à 1 000 degrés Celsius.
L’équipement doit permettre le chargement d’au moins 100 wafers.
L’épaisseur d’oxyde souhaitée est de quelques centaines de nanomètres.
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2011-04-22Piste d’étalement pour 2 résines pour wafers silicium de 200 millimètres de diamètre (CEA/Grenoble)
Le CEA souhaite s’équiper d’une piste de dépôt pour 2 résines pour des wafers de silicium de 200 millimètres de diamètre comprenant deux pompes de dispenses pour les résines ainsi que pour les détourages et les nettoyages face arrière.
La piste doit être équipée de plaques chauffantes permettant d’ atteindre une température de 250 degrés Celsius, dont une avec promoteur d’adhérence.
De plus l’équipement doit inclure des stations de refroidissement.
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2011-04-22Bancs chimiques automatiques de gravure pour wafers silicium de 200 millimètres de diamètre (CEA/Grenoble)
Le CEA souhaite s’équiper de 4 bancs chimiques automatiques de gravure pour des wafers de silicium de 200 millimètres de diamètre listés ci après:
— banc chimique de gravure d’aluminium,
— banc chimique de gravure de titane,
— banc chimique de gravure de nickel,
— banc chimique de gravure de mélange cuivre/or.
Ces équipements doivent comporter un système d’agitation er de régulation en température permettant d’atteindre 85 degrés Celsius.
En plus du bac de process, ils doivent comporter un bac de rinçage QDR.
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2011-04-19Mission de maitrise d'œuvre pour le réaménagement de 1 000 m² dans l'aile 04 du bâtiment 40 du Centre du CEA Grenoble (CEA/Grenoble)
Cette mission comprend:
— L'analyse de l'existant,
— Les études de conception, le lotissement, l'estimation financière,
— La rédaction des dossiers de consultation, l'assistance à la consultation des entreprises, l'analyse des offres,
— Le suivi des travaux (en option),
— L'ordonnancement, le pilotage et la coordination du chantier (en option).
Pour l'aménagement de 1 000 m² de laboratoires (dont 690 m² de laboratoires à confinement L1 et 110 m² de laboratoires à confinement L2) dédiés à la Recherche …
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2011-04-14Equipement de dépôt de couche atomique couplé à une boite à gants (CEA/Grenoble)
Il s’agit d’un équipement ALD (atomic layer deposition) qui sera dédié aux dépôts nanométriques des couches ultra barrières. Afin d’assurer une utilisation optimale, cet équipement est couplé à une boite à gant.
L’objectif principal est d’encapsuler des composants comme les microbatteries au lithium qui sont très sensibles à l’air.
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2011-04-06Fourniture de microphotomasques pour la microélectronique et les nanotechnologies (CEA/Grenoble)
Fourniture de microphotomasques pour la microélectronique et les nanotechnologies. Les substrats de microphotomasques sont en plaques de quartz, verre ou sodalime avec couche de chrome anti-réflectif.
Le marché est divisé en 3 lots. Le CEA se réserve la possibilité d'attribuer un, plusieurs ou tous les lots à un ou plusieurs fournisseurs. Il n'y aura qu'un titulaire par lot.
Le marché sera un marché à bons de commande conclu pour une durée de un an à compter du 1.6.2011.
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2011-04-01Fourniture d'un système de microscopie confocal "spinning disk" (CEA/Grenoble)
L'institut de recherches en technologies et Sciences pour le Vivant (IRTSV) du CEA Grenoble, a développé un savoir faire sur l'imagerie moléculaire et cellulaire permettant d'observer en temps réel des interactions entre protéines. Les équipements existants sont à la disposition d'une large communauté scientifique à travers leurs rattachements à la plate-forme IBS/IRTSV, "dynamique structurale".
Nous souhaitons acquérir un système de microscopie confocal de type "spinning disk" nous permettant d'étendre …
Voir la passation de marché » Fournisseurs mentionnés:Roper Scientific SAS
2011-03-31Réalisation d'un programme de relations publiques (CEA/Grenoble)
Au sein du CEA Grenoble, le Leti (laboratoire d'électronique de technologie de l'information) souhaite renforcer sa notoriété et son image au niveau national et à l'international.
Pour cela, le CEA Grenoble souhaite confier un marché à bon de commandes comprenant des prestations de conception et réalisation d'un programme de relations publiques, utilisant différents outils de communication (communiqués de presse, placement d'articles techniques, rencontres avec des journalistes...), pour une diffusion …
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2011-02-25Maintenance des groupes de pompage et systèmes d’abattement de marque Edwards du CEA/Leti (CEA/Grenoble)
Dans le cadre de ses activités de recherche et de développement dans les domaines des micro et nanotechnologies, le CEA Leti souhaite confier à un prestataire la prestation de maintenance des groupes de pompage et systèmes d’abattement de marque Edwards.
Ces prestations sont les suivantes:
— maintenance préventive sur site,
— maintenance préventive chez le prestataire,
— maintenance curative sur site,
— maintenance curative chez le prestataire,
— fourniture de pièces détachées,
— service complet ou "full …
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2011-02-21Réalisation d'un programme de relations publiques (CEA/Grenoble)
Au sein du CEA Grenoble, le LETI (Laboratoire d'électronique de technologie de l'information) souhaite renforcer sa notoriété et son image au niveau national et à l'international.
Pour cela, le CEA Grenoble souhaite confier un marché à bon de commandes comprenant des prestations de conception et réalisation d'un programme de relations publiques, utilisant différents outils de communication (communiqués de presse, placement d'articles techniques, rencontres avec des journalistes...), pour une diffusion …
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2011-02-17Simulateur solaire (CEA/Grenoble)
Dans le cadre de ses activités de recherche, le département des technologies solaires du CEA Grenoble souhaite acquérir simulateur solaire impulsionnel pour l'étude ou la caractérisation d'éléments et/ou de modules CPV.
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2011-02-04Fourniture d’un instrument de spectrométrie de masse à haut débit, haute sensibilité et haute résolution pour la... (CEA/Grenoble)
Le Laboratoire d’étude de la dynamique des Protéomes (U1038 CEA/DSV/iRTSV/LBGE/LEDyP - Inserm - UJF) a pour vocation le développement d’un ensemble de techniques de microanalyse des protéines. A ce titre, le CEA souhaite faire l’acquisition d’un instrument de spectrométrie de masse à haut débit, haute sensibilité et haute résolution pour la réalisation d’études protéomiques: identification de peptides en mode MS/MS, études protéomiques par signatures spécifiques massiques et temporelles -SMT- et …
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2011-02-02Équipement de dépôt PVD pour la réalisation de l'empilement des couches actives de micro batteries sur substrat Si 200 mm (CEA/Grenoble)
Le CEA souhaite s'équiper d'un ensemble de chambres de dépôt PVD pour réalisations de l'empilement des couches actives de micro batteries sur substrat Si 200 mm. Cet ensemble de chambres devra permettre l'obtention de couches servant à la collection du courant (métal) ainsi que les matériaux d'électrodes et électrolyte des batteries. L'ensemble des chambres devront être connectées à une boîte à gants sous argon. Un dispositif devra permettre la réalisation de motifs pour chacune des couches (technologie …
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2011-02-01Ensemble de chambres de gravure RIE (CEA/Grenoble)
Le CEA souhaite s’équiper d’un ensemble de chambres de gravure RIE utilisées dans un procédé de fabrication de micro batteries sur substrats SI 200 mm. Les couches gravées seront de différents types: métal diélectrique, matériaux lithiés.
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2011-01-28Fourniture d'un équipement de sérigraphie pour des substrats 300 mm (CEA/Grenoble)
Le CEA-Leti souhaite s'équiper d'un équipement de sérigraphie pour le traitement de substrats de 300 millimètres de diamètre.
La compatibilité de l'équipement avec des substrats de 200 millimètres doit être présentée en option.
Les substrats traités par l'équipement de sérigraphie peuvent être de différents types (verre, silicium, silicium collé sur verre...).
Leur épaisseurs peuvent varier entre 50 micromètres et 2 millimètres (dans le cas de plaques silicium collées sur verre), avec une flèche de 500 …
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