Fournisseur: KLA Corporation
3 marchés publics archivés
KLA Corporation est historiquement un fournisseur de machines, appareils, équipements et consommables électriques; éclairage, fournitures électroniques, électromécaniques et électrotechniques et équipement électronique.
Marchés publics récents dans lesquels le fournisseur KLA Corporation est mentionné
2023-08-24
Fourniture et installation d'un équipement de dépôt PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) (CNRS délégation régionale Hauts-de-France)
Dans le cadre du CPER IMITECH et NANOFUTUR, l'IEMN (Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie) souhaite faire l'acquisition d'un équipement de dépôt PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Voir la passation de marché »
Dans le cadre du CPER IMITECH et NANOFUTUR, l'IEMN (Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie) souhaite faire l'acquisition d'un équipement de dépôt PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Voir la passation de marché »
2022-07-13
acquisition d'un équipement de gravure profonde ionique réactive (Institut polytechnique de Grenoble)
la présente consultation concerne l'acquisition d'un équipement de gravure profonde ionique réactive au profit de l'institut Polytechnique de Grenoble - pTA Voir la passation de marché »
la présente consultation concerne l'acquisition d'un équipement de gravure profonde ionique réactive au profit de l'institut Polytechnique de Grenoble - pTA Voir la passation de marché »
2021-05-05
Équipement de mesure d’Overlay pour de la lithographie avancée (CEA/Grenoble)
Le CEA/Grenoble souhaite louer ou acheter un équipement de mesure d’Overlay pour la lithographie avancée qui participera à étudier des process en vue de la production de composants microélectroniques, MEMS ou NEMS. Il sera intégré dans la salle blanche de son Institut Léti. Il devra gérer automatiquement les mesures sur des plaques de silicium 200 et 300 mm. Voir la passation de marché »
Le CEA/Grenoble souhaite louer ou acheter un équipement de mesure d’Overlay pour la lithographie avancée qui participera à étudier des process en vue de la production de composants microélectroniques, MEMS ou NEMS. Il sera intégré dans la salle blanche de son Institut Léti. Il devra gérer automatiquement les mesures sur des plaques de silicium 200 et 300 mm. Voir la passation de marché »