2021-05-05Équipement de mesure d’Overlay pour de la lithographie avancée (CEA/Grenoble)
Le CEA/Grenoble souhaite louer ou acheter un équipement de mesure d’Overlay pour la lithographie avancée qui participera à étudier des process en vue de la production de composants microélectroniques, MEMS ou NEMS. Il sera intégré dans la salle blanche de son Institut Léti. Il devra gérer automatiquement les mesures sur des plaques de silicium 200 et 300 mm.
Voir la passation de marché » Fournisseurs mentionnés:KLA Corporation