Fournisseur: Annealsys

5 marchés publics archivés

Marchés publics récents dans lesquels le fournisseur Annealsys est mentionné

2021-12-02   acquisition d'un réacteur MOCVD à injection pulsée (Institut polytechnique de Grenoble)
acquisition d'un réacteur MOCVD à injection pulsée Voir la passation de marché »
Fournisseurs mentionnés: Annealsys
2018-01-29   Fourniture d'équipements pour le Centre d'études et de recherche technologiques en microélectronique CERTEM 2020 5 Tranche (Université François Rabelais de Tours)
Le présent marché a pour objet la fourniture, la livraison, l'installation, la mise en service et la formation à l'utilisation des différents équipements destinés au Centre d'études et de recherches technologiques en microélectronique (CERTEM) phase 2020, dans le cadre de la cinquième tranche d'acquisition (5 tranche). Voir la passation de marché »
Fournisseurs mentionnés: Accelonix AET Technologies Annealsys Beneq Corial Eden Instruments Fondis Electronic Kep Technologies/Setaram Lay Concept LFG Distribution Malvern Instruments Microcontrole Spectra-Physics Microtest Mutlivac Netzsch Gerätebau Optec SA Pfeiffer Vacuum Plassys Bestek Semilab Tektronix SA Thermo Electron
2016-05-19   Acquisition d'un bâti de dépôt par couche atomique (Ald) de films minces d'oxydes ternaires de structure pérovskite (Université de Versailles Saint-Quentin)
Le présent marché à pour objet l'acquisition d'un bâti de dépôt par couche atomique (Ald) de films minces d'oxydes ternaires de structure pérovskite pour le laboratoire GEMAC de l'université de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines. Voir la passation de marché »
Fournisseurs mentionnés: Annealsys
2011-10-03   Machine neuve de dépôt chimique de couches atomiques avec plasma (PE-ALD) (CNRS - délégation Midi-Pyrénées)
Machine neuve de dépôt chimique de couches atomiques avec plasma (PE-ALD). Voir la passation de marché »
Fournisseurs mentionnés: Annealsys
2011-04-14   Equipement de dépôt de couche atomique couplé à une boite à gants (CEA/Grenoble)
Il s’agit d’un équipement ALD (atomic layer deposition) qui sera dédié aux dépôts nanométriques des couches ultra barrières. Afin d’assurer une utilisation optimale, cet équipement est couplé à une boite à gant. L’objectif principal est d’encapsuler des composants comme les microbatteries au lithium qui sont très sensibles à l’air. Voir la passation de marché »
Fournisseurs mentionnés: Annealsys