Le CEA LETI souhaite acquérir les trois équipements suivants : Lot 1 : Equipement traitement thermique pour des procédés LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition), en mode batch pour des applications microélectroniques aux nœuds technologiques 10nm et au-delà, sur des plaques de silicium 300mm. Lot 2 : Equipement de traitements thermiques rapides (RTP) pour l'ingénierie de grille de transistors aux nœuds technologiques 10nm et au-delà. Lot 3 : Equipement de traitement thermique pour réaliser des recuits en mode batch sur les briques BEOL de transistors FDSOI au nœud technologique 10nm. Ces équipements seront installés dans les salles blanches du CEA LETI où ils seront utilisés 7jours /7.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2022-09-15.
L'appel d'offres a été publié le 2022-08-05.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Avis de marché (2022-08-05) Objet Champ d'application du marché
Titre: Machines et appareils microélectroniques
Numéro de référence: AOO-B22-04827-TZ
Brève description:
Le CEA LETI souhaite acquérir les trois équipements suivants :
Lot 1 : Equipement traitement thermique pour des procédés LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition), en mode batch pour des applications microélectroniques aux nœuds technologiques 10nm et au-delà, sur des plaques de silicium 300mm.
Lot 2 : Equipement de traitements thermiques rapides (RTP) pour l'ingénierie de grille de transistors aux nœuds technologiques 10nm et au-delà.
Lot 3 : Equipement de traitement thermique pour réaliser des recuits en mode batch sur les briques BEOL de transistors FDSOI au nœud technologique 10nm.
Ces équipements seront installés dans les salles blanches du CEA LETI où ils seront utilisés 7jours /7.
Le CEA LETI souhaite acquérir les trois équipements suivants :
Lot 1 : Equipement traitement thermique pour des procédés LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition), en mode batch pour des applications microélectroniques aux nœuds technologiques 10nm et au-delà, sur des plaques de silicium 300mm.
Lot 2 : Equipement de traitements thermiques rapides (RTP) pour l'ingénierie de grille de transistors aux nœuds technologiques 10nm et au-delà.
Lot 3 : Equipement de traitement thermique pour réaliser des recuits en mode batch sur les briques BEOL de transistors FDSOI au nœud technologique 10nm.
Ces équipements seront installés dans les salles blanches du CEA LETI où ils seront utilisés 7jours /7.
Métadonnées de l'avis
Langue originale: français 🗣️
Type de document: Avis de marché
Nature du marché: Fournitures
Réglementation: Union européenne, avec participation des pays de l'AMP
Vocabulaire commun pour les marchés publics (CPV)
Code: Machines et appareils microélectroniques📦
Code CPV supplémentaire: Machines et appareils microélectroniques📦 Lieu d'exécution
Région NUTS: Isère
🏙️
Procédure
Type de procédure: Procédure ouverte
Type de soumission: Soumission pour tous les lots
Critères d'attribution
Offre la plus économique
Référence Dates
Date d'envoi: 2022-08-05 📅
Date limite de soumission: 2022-09-15 📅
Date de publication: 2022-08-10 📅
Identifiants
Numéro d'avis: 2022/S 153-436760
Numéro JO-S: 153
Objet Champ d'application du marché
Brève description:
Le CEA LETI souhaite acquérir les trois équipements suivants :
Lot 1 : Equipement traitement thermique pour des procédés LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition), en mode batch pour des applications microélectroniques aux nœuds technologiques 10nm et au-delà, sur des plaques de silicium 300mm.
Lot 2 : Equipement de traitements thermiques rapides (RTP) pour l'ingénierie de grille de transistors aux nœuds technologiques 10nm et au-delà.
Lot 3 : Equipement de traitement thermique pour réaliser des recuits en mode batch sur les briques BEOL de transistors FDSOI au nœud technologique 10nm.
Ces équipements seront installés dans les salles blanches du CEA LETI où ils seront utilisés 7jours /7.
Valeur totale estimée: 1 EUR 💰
Intitulé du lot: Four de traitement thermique pour procédés LPCVD en mode batch
Numéro du lot: 1
Brève description:
Lot 1 : Four de traitement thermique pour procédés LPCVD en mode batch
Le CEA-LETI souhaite faire l'acquisition d'un équipement de traitement thermique pour réaliser des procédés LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition) en mode batch pour des applications microélectroniques aux nœuds technologiques 10nm et au-delà, sur des plaques de silicium 300mm. Deux tubes verticaux seront nécessaires pour réaliser l'ensemble des procédés identifiés au cahier des charges, tout en garantissant que la cohabitation des différents procédés n'induit pas d'effets préjudiciables sur les performances de l'équipement.
Le CEA-LETI souhaite faire l'acquisition d'un équipement de traitement thermique pour réaliser des procédés LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition) en mode batch pour des applications microélectroniques aux nœuds technologiques 10nm et au-delà, sur des plaques de silicium 300mm. Deux tubes verticaux seront nécessaires pour réaliser l'ensemble des procédés identifiés au cahier des charges, tout en garantissant que la cohabitation des différents procédés n'induit pas d'effets préjudiciables sur les performances de l'équipement.
Durée de l'accord: 12 mois
Intitulé du lot: Equipement de traitements thermiques rapides RTP pour empilement de grille
Numéro du lot: 2
Brève description:
Le CEA-LETI souhaite faire l'acquisition d'un équipement de traitements thermiques rapides (RTP) pour l'ingénierie de grille de transistors aux nœuds technologiques 10nm et au-delà. Cet équipement sera doté de quatre chambres différentes permettant de réaliser des opérations d'oxydation, de nitruration et de traitement de l'empilement de grille selon différents modes (thermique, plasma), à des gammes de températures variées et sous différentes ambiances gazeuses. Il devra traiter des plaques de silicium 300mm.
Le CEA-LETI souhaite faire l'acquisition d'un équipement de traitements thermiques rapides (RTP) pour l'ingénierie de grille de transistors aux nœuds technologiques 10nm et au-delà. Cet équipement sera doté de quatre chambres différentes permettant de réaliser des opérations d'oxydation, de nitruration et de traitement de l'empilement de grille selon différents modes (thermique, plasma), à des gammes de températures variées et sous différentes ambiances gazeuses. Il devra traiter des plaques de silicium 300mm.
Intitulé du lot: Four de recuit pour applications BEOL
Numéro du lot: 3
Brève description:
Le CEA-LETI souhaite faire l'acquisition d'un équipement de traitement thermique pour réaliser des recuits en mode batch sur les briques BEOL de transistors FDSOI au nœud technologique 10nm. L'équipement devra fonctionner sous une ambiance exempte de toute trace d'oxygène, à pression ambiante ou réduite et dans une gamme de température de 100°C à 800°C. Cet équipement devra traiter des plaques de silicium 300mm.
Le CEA-LETI souhaite faire l'acquisition d'un équipement de traitement thermique pour réaliser des recuits en mode batch sur les briques BEOL de transistors FDSOI au nœud technologique 10nm. L'équipement devra fonctionner sous une ambiance exempte de toute trace d'oxygène, à pression ambiante ou réduite et dans une gamme de température de 100°C à 800°C. Cet équipement devra traiter des plaques de silicium 300mm.
Lieu d'exécution
Site principal ou lieu d'exécution: CEA GRENOBLE-Conditions d'accès réglementées
Informations juridiques, économiques, financières et techniques Conditions de participation
Habilitation à exercer l'activité professionnelle:
-le formulaire DC1 (Lettre de candidature et habilitation du mandataire par ses cotraitants) ou une lettre de candidature signée par une personne habilitée à engager le candidat ou habilitant le mandataire d’un groupement à représenter le groupement accompagnée d'une attestation sur l'honneur contenant l'ensemble des informations demandées à la page 3 de ce formulaire.
-le formulaire DC1 (Lettre de candidature et habilitation du mandataire par ses cotraitants) ou une lettre de candidature signée par une personne habilitée à engager le candidat ou habilitant le mandataire d’un groupement à représenter le groupement accompagnée d'une attestation sur l'honneur contenant l'ensemble des informations demandées à la page 3 de ce formulaire.
-le formulaire DC2 (Déclaration du candidat individuel ou du membre du groupement) (ou équivalent).
Ces formulaires sont disponibles sur le site Internet suivant :
-lorsqu’il appartient à un groupe, une attestation certifiant de son autonomie commerciale et de sa situation de concurrence vis à vis des autres entreprises du groupe.
Situation économique et financière: Critères de sélection tels que mentionnés dans les documents de la consultation
Capacité technique et professionnelle: Critères de sélection tels que mentionnés dans les documents de la consultation
Procédure
Base juridique: 32014L0024
Heure limite de réception des offres: 16:00
Langues dans lesquelles les offres ou les demandes de participation peuvent être présentées: anglais 🗣️
français 🗣️
Date d'ouverture des offres: 2022-09-15 📅
Heure d'ouverture des offres: 17:00
Informations complémentaires Organe de révision
Nom: Tribunal administratif de grenoble
Adresse postale: 2 Place de Verdun
Commune postale: Grenoble
Code postal: 38000
Pays: France 🇫🇷
Téléphone: +33 476429000📞
Courrier électronique: greffe.ta-grenoble@juradm.fr📧
Fax: +334 76422269 📠
Adresse Internet: http://grenoble.tribunal-administratif.fr/🌏
Informations sur les délais d'introduction des recours:
Le référé précontractuel peut être introduit depuis le début de la procédure de passation jusqu’à la signature du marché.
Le référé contractuel peut être introduit dans les conditions des articles L.551-13 et suivants du Code de justice administrative.
Le recours en contestation de la validité du marché par un tiers peut être intenté dans un délai de deux mois à compter des mesures de publicité appropriées.
Service auprès duquel des informations sur la procédure de recours peuvent être obtenues
Nom: Greffe tribunal administratif de grenoble
Source: OJS 2022/S 153-436760 (2022-08-05)
Avis d'attribution de marché (2022-09-23) Objet Métadonnées de l'avis
Type de document: Avis d'attribution de marché
Procédure
Type de soumission: Sans objet
Critères d'attribution
Prix le plus bas
Référence Dates
Date d'envoi: 2022-09-23 📅
Date de publication: 2022-09-28 📅
Identifiants
Numéro d'avis: 2022/S 187-529167
Se réfère à l'avis: 2022/S 153-436760
Numéro JO-S: 187
Source: OJS 2022/S 187-529167 (2022-09-23)
Avis d'attribution de marché (2023-01-18) Objet Champ d'application du marché
Brève description:
Lot 1 : Equipement traitement thermique pour des procédés LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition), en mode batch pour des applications microélectroniques aux noeuds technologiques 10nm et au-delà, sur des plaques de silicium 300mm.
Lot 2 : Equipement de traitements thermiques rapides (RTP) pour l'ingénierie de grille de transistors aux noeuds technologiques 10nm et au-delà.
Lot 3 : Equipement de traitement thermique pour réaliser des recuits en mode batch sur les briques BEOL de transistors FDSOI au noeud technologique 10nm.
Lot 1 : Equipement traitement thermique pour des procédés LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition), en mode batch pour des applications microélectroniques aux noeuds technologiques 10nm et au-delà, sur des plaques de silicium 300mm.
Lot 2 : Equipement de traitements thermiques rapides (RTP) pour l'ingénierie de grille de transistors aux noeuds technologiques 10nm et au-delà.
Lot 3 : Equipement de traitement thermique pour réaliser des recuits en mode batch sur les briques BEOL de transistors FDSOI au noeud technologique 10nm.
Valeur totale du marché: 1 EUR 💰
Procédure
Type de procédure: Procédure concurrentielle avec négociation
Référence Dates
Date d'envoi: 2023-01-18 📅
Date de publication: 2023-01-23 📅
Identifiants
Numéro d'avis: 2023/S 016-042497
Se réfère à l'avis: 2022/S 187-529167
Numéro JO-S: 16
Informations complémentaires
Modalités de consultation du marché : un exemplaire du marché est disponible auprès du CEA dont les coordonnées sont précisées à la section I du présent avis. La consultation s’effectue dans le respect des secrets protégés par la loi.
Les cases relatives au montant du marché ont été complétées au II.1.7 et au V.2.4 par la valeur "1,00" uniquement pour pouvoir valider et publier l'avis d'attribution. Les valeurs indiquées dans ces champs ne sont donc pas à prendre en compte.
Modalités de consultation du marché : un exemplaire du marché est disponible auprès du CEA dont les coordonnées sont précisées à la section I du présent avis. La consultation s’effectue dans le respect des secrets protégés par la loi.
Les cases relatives au montant du marché ont été complétées au II.1.7 et au V.2.4 par la valeur "1,00" uniquement pour pouvoir valider et publier l'avis d'attribution. Les valeurs indiquées dans ces champs ne sont donc pas à prendre en compte.
Objet Champ d'application du marché
Brève description:
Lot 1 : Equipement traitement thermique pour des procédés LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition), en mode batch pour des applications microélectroniques aux noeuds technologiques 10nm et au-delà, sur des plaques de silicium 300mm.
Lot 2 : Equipement de traitements thermiques rapides (RTP) pour l'ingénierie de grille de transistors aux noeuds technologiques 10nm et au-delà.
Lot 3 : Equipement de traitement thermique pour réaliser des recuits en mode batch sur les briques BEOL de transistors FDSOI au noeud technologique 10nm.
Intitulé du lot: Equipement traitement thermique pour des procédés LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition), en mode batch pour des applications microélectroniques aux noeuds technologiques 10nm et au-delà, sur
Brève description:
Equipement traitement thermique pour des procédés LPCVD (Low-Pressure Chemical Vapor Deposition), en mode batch pour des applications microélectroniques aux noeuds technologiques 10nm et au-delà, sur des plaques de silicium 300mm
Intitulé du lot: Equipement de traitements thermiques rapides (RTP) pour l'ingénierie de grille de transistors aux nœuds technologiques 10nm et au-delà
Brève description:
Equipement de traitements thermiques rapides (RTP) pour l'ingénierie de grille de transistors aux noeuds technologiques 10nm et au-delà
Intitulé du lot: Equipement de traitement thermique pour réaliser des recuits en mode batch sur les briques BEOL de transistors FDSOI au noeud technologique 10nm.
Brève description:
Equipement de traitement thermique pour réaliser des recuits en mode batch sur les briques BEOL de transistors FDSOI au noeud technologique 10nm.
Attribution du marché
Date de conclusion du contrat: 2022-12-15 📅
Nom: ASM Europe B.V
Commune postale: Versterkerstraat
Pays: Pays-Bas 🇳🇱
Noord-Nederland
🏙️
Valeur totale du marché: 1 EUR 💰
Date de conclusion du contrat: 2022-12-07 📅
Nom: Applied materials south east asia
Commune postale: Singapour
Pays: Singapour 🇸🇬
Date de conclusion du contrat: 2022-12-09 📅
Nom: Tokyo electron europe limited
Commune postale: Crawley
Pays: Royaume-Uni 🇬🇧
Surrey, East and West Sussex
🏙️ Informations sur les appels d'offres
Nombre d'offres reçues: 2
1
Référence Informations complémentaires
Modalités de consultation du marché : un exemplaire du marché est disponible auprès du CEA dont les coordonnées sont précisées à la section I du présent avis. La consultation s’effectue dans le respect des secrets protégés par la loi.
Les cases relatives au montant du marché ont été complétées au II.1.7 et au V.2.4 par la valeur "1,00" uniquement pour pouvoir valider et publier l'avis d'attribution. Les valeurs indiquées dans ces champs ne sont donc pas à prendre en compte.