Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt diélectrique ayant pour but, de développer des films minces d'oxyde de silicium (à base de silane et de teos), de nitrure de silicium, d'oxynitrure de silicium, de silicium amorphe et des empilements de ces films nécessaires à la production de puces de nouvelle technologie pour les micro et nanotechnologies. L'équipement doit être entièrement automatique et compatible avec le traitement de plaquettes de 200 mm. L'unité centrale doit être un outil en grappe, avec au moins trois chambres qui seront des réacteurs à plaquette unique. Pour cet outil, les matériaux diélectriques déposés par la technique PECVD seront utilisés principalement dans les intégrations back-end.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2021-06-28.
L'appel d'offres a été publié le 2021-05-26.
Objet Champ d'application du marché
Titre:
“Fourniture d'un équipement de dépôt diélectrique 200 mm pour le bâtiment 41
AOO-B21-03384”
Produits/services: Machines et appareils microélectroniques📦
Brève description:
“Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt diélectrique ayant pour but, de développer des films minces d'oxyde de silicium (à base de silane et de...”
Brève description
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt diélectrique ayant pour but, de développer des films minces d'oxyde de silicium (à base de silane et de teos), de nitrure de silicium, d'oxynitrure de silicium, de silicium amorphe et des empilements de ces films nécessaires à la production de puces de nouvelle technologie pour les micro et nanotechnologies. L'équipement doit être entièrement automatique et compatible avec le traitement de plaquettes de 200 mm. L'unité centrale doit être un outil en grappe, avec au moins trois chambres qui seront des réacteurs à plaquette unique. Pour cet outil, les matériaux diélectriques déposés par la technique PECVD seront utilisés principalement dans les intégrations back-end.
1️⃣
Lieu d'exécution: Isère🏙️
Description du marché:
“Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt diélectrique ayant pour but, de développer des films minces d'oxyde de silicium (à base de silane et de...”
Description du marché
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt diélectrique ayant pour but, de développer des films minces d'oxyde de silicium (à base de silane et de teos), de nitrure de silicium, d'oxynitrure de silicium, de silicium amorphe et des empilements de ces films nécessaires à la production de puces de nouvelle technologie pour les micro et nanotechnologies. L'équipement doit être entièrement automatique et compatible avec le traitement de plaquettes de 200 mm. L'unité centrale doit être un outil en grappe, avec au moins trois chambres qui seront des réacteurs à plaquette unique. Pour cet outil, les matériaux diélectriques déposés par la technique PECVD seront utilisés principalement dans les intégrations back-end.
Afficher plus Critères d'attribution
Le prix n'est pas le seul critère d'attribution et tous les critères ne sont énoncés que dans les documents de passation de marchés
Durée du contrat, de l'accord-cadre ou du système d'acquisition dynamique
Le délai ci-dessous est exprimé en nombre de mois.
Description
Durée de l'accord: 6
Informations sur les variantes
Les variantes sont acceptées ✅
Informations juridiques, économiques, financières et techniques Conditions de participation
Liste et brève description des conditions:
“Le candidat fournira à l’appui de sa candidature:
— le formulaire DC1 (lettre de candidature et habilitation du mandataire par ses cotraitants) ou...”
Liste et brève description des conditions
Le candidat fournira à l’appui de sa candidature:
— le formulaire DC1 (lettre de candidature et habilitation du mandataire par ses cotraitants) ou équivalent;
— le formulaire DC2 (déclaration du candidat individuel ou du membre du groupement) ou équivalent.
Ces formulaires sont disponibles sur le site Internet suivant:
http://www.economie.gouv.fr/daj/formulaires-declaration-du-candidat
— la copie du ou des jugements prononcés s’il est en redressement judiciaire ou dans une procédure étrangère équivalente;
— lorsqu’il appartient à un groupe, une attestation certifiant de son autonomie commerciale et de sa situation de concurrence vis à vis des autres entreprises du groupe.
Afficher plus Situation économique et financière
Critères de sélection énoncés dans les documents de passation de marchés
Capacité technique et professionnelle
Critères de sélection énoncés dans les documents de passation de marchés
Procédure Type de procédure
Procédure ouverte
Informations administratives
Délai de réception des offres ou des demandes de participation: 2021-06-28
12:00 📅
Langues dans lesquelles les offres ou les demandes de participation peuvent être présentées: français 🗣️
Le délai ci-dessous est exprimé en nombre de mois.
Délai minimum pendant lequel le soumissionnaire doit maintenir l'offre: 4
Conditions d'ouverture des offres: 2021-06-28
14:00 📅
“Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés...”
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis, et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
Le présent avis et/ou les documents de la consultation doivent être retirés sur: https://www.marchespublics.gouv.fr
Modalités d’obtention du dossier de consultation: pour obtenir le dossier de consultation des entreprises, le candidat devra le télécharger via la plateforme de dématérialisation des procédures de passation des marchés du CEA accessible sur l’URL suivante: https://
www.marches-publics.gouv.fr
Les demandes de dossiers de consultation devront préciser la référence suivante: AOO-B21-03384-ZM.
Les modalités de dépôt des candidatures et des offres sont précisées dans le règlement de consultation.
Afficher plus Organe de révision
Nom: Tribunal administratif de Grenoble
Adresse postale: 2 place de Verdun
Commune postale: Grenoble
Code postal: 38000
Pays: France 🇫🇷
Téléphone: +33 476429000📞
Courrier électronique: greffe.ta-grenoble@juradm.fr📧
Fax: +33 476422269 📠
URL: http://grenoble.tribunal-administratif.fr/🌏 Service auprès duquel des informations sur la procédure de recours peuvent être obtenues
Nom: Greffe tribunal administratif de Grenoble
Adresse postale: 2 place de Verdun
Commune postale: Grenoble
Code postal: 38000
Pays: France 🇫🇷
Téléphone: +33 476429000📞
Courrier électronique: greffe.ta-grenoble@juradm.fr📧
URL: http://grenoble.tribunal-administratif.fr/🌏
Source: OJS 2021/S 103-270602 (2021-05-26)
Avis d'attribution de marché (2021-06-29) Objet Champ d'application du marché
Brève description:
“Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt diélectrique ayant pour but, de développer des films minces d'oxyde de silicium (à base de Silane et de...”
Brève description
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt diélectrique ayant pour but, de développer des films minces d'oxyde de silicium (à base de Silane et de TEOS), de nitrure de silicium, d'oxynitrure de silicium, de silicium amorphe et des empilements de ces films nécessaires à la production de puces de nouvelle technologie pour les micro et nanotechnologies. L'équipement doit être entièrement automatique et compatible avec le traitement de plaquettes de 200 mm. L'unité centrale doit être un outil en grappe avec au moins trois chambres qui seront des réacteurs à plaquette unique. Pour cet outil, les matériaux diélectriques déposés par la technique PECVD seront utilisés principalement dans les intégrations back-end.
Afficher plus Description
Description du marché:
“Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt diélectrique ayant pour but, de développer des films minces d'oxyde de silicium (à base de Silane et de...”
Description du marché
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt diélectrique ayant pour but, de développer des films minces d'oxyde de silicium (à base de Silane et de TEOS), de nitrure de silicium, d'oxynitrure de silicium, de silicium amorphe et des empilements de ces films nécessaires à la production de puces de nouvelle technologie pour les micro et nanotechnologies. L'équipement doit être entièrement automatique et compatible avec le traitement de plaquettes de 200 mm. L'unité centrale doit être un outil en grappe avec au moins trois chambres qui seront des réacteurs à plaquette unique. Pour cet outil, les matériaux diélectriques déposés par la technique PECVD seront utilisés principalement dans les intégrations back-end.
Afficher plus Critères d'attribution
Critère de qualité (nom): Configuration globale de l’équipement
Critère de qualité (pondération): 25 %
Critère de qualité (nom): Performances des réacteurs et spécifications des couches minces déposées
Critère de qualité (pondération): 20 %
Critère de qualité (nom): Délais de fabrication
Critère de qualité (pondération): 5 %
Prix (pondération): 50 %
Procédure Informations administratives
Publication précédente concernant cette procédure: 2021/S 103-270602
Attribution du marché
1️⃣
Titre: Fourniture d'un équipement de dépôt diélectrique 200 mm pour le bâtiment 41
Informations sur les non-lauréats
Aucune offre ou demande de participation n'a été reçue ou toutes ont été rejetées
“Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés...”
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
Le présent avis et/ou les documents de la consultation doivent être retirés sur https://www.marchespublics.gouv.fr.
Modalités d’obtention du dossier de consultation:
Pour obtenir le dossier de consultation des entreprises, le candidat devra le télécharger via la plate-forme de dématérialisation des procédures de passation des marchés du CEA accessible sur l’internet suivante: https://www.marches-publics.gouv.fr
Les demandes de dossiers de consultation devront préciser la référence suivante: AOO-B21-03384-ZM.
Les modalités de dépôt des candidatures et des offres sont précisées dans le règlement de consultation.
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Source: OJS 2021/S 126-332248 (2021-06-29)