Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semiconducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZnS, Al2O3, SiOx, SiN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition). Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2019-04-26.
L'appel d'offres a été publié le 2019-03-27.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Avis de marché (2019-03-27) Objet Champ d'application du marché
Titre: Machines et appareils microélectroniques et microsystèmes
Numéro de référence: AOO-190057-CMF
Brève description:
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semiconducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZnS, Al2O3, SiOx, SiN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semiconducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZnS, Al2O3, SiOx, SiN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Métadonnées de l'avis
Langue originale: français 🗣️
Type de document: Avis de marché
Nature du marché: Fournitures
Réglementation: Union européenne, avec participation des pays de l'AMP
Vocabulaire commun pour les marchés publics (CPV)
Code: Machines et appareils microélectroniques et microsystèmes📦 Lieu d'exécution
Région NUTS: Isère
🏙️
Procédure
Type de procédure: Procédure ouverte
Type de soumission: Soumission pour tous les lots
Critères d'attribution
Offre la plus économique
Référence Dates
Date d'envoi: 2019-03-27 📅
Date limite de soumission: 2019-04-26 📅
Date de publication: 2019-04-01 📅
Identifiants
Numéro d'avis: 2019/S 064-148632
Numéro JO-S: 64
Informations complémentaires
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
Le présent avis et/ou les documents de la consultation doivent être retirés sur https://www.marches-publics.gouv.fr.
Modalités d’obtention du dossier de consultation:
Pour obtenir le dossier de consultation des entreprises, le candidat devra le télécharger via la plate-forme de dématérialisation des procédures de passation des marchés du CEA accessible sur l’URL suivante: https://www.marches-publics.gouv.fr
Les téléchargements de dossiers de consultation devront préciser la référence suivante:AOO-190057-CMF
Modalités de transmission des candidatures et des offres:
Les modalités de dépôt des candidatures et des offres sont précisées dans le règlement de consultation.
Validation des dossiers de candidature:
Après examen de la conformité administrative du dossier de candidature, le CEA procédera à l'analyse et à la validation des candidatures conformément aux critères de jugement des candidatures suivants:
— capacité professionnelle: aptitude technique, organisation en matière d’assurance qualité, références sur des fournitures similaires,
— capacité financière.
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
Pour obtenir le dossier de consultation des entreprises, le candidat devra le télécharger via la plate-forme de dématérialisation des procédures de passation des marchés du CEA accessible sur l’URL suivante: https://www.marches-publics.gouv.fr
Les téléchargements de dossiers de consultation devront préciser la référence suivante:AOO-190057-CMF
Modalités de transmission des candidatures et des offres:
Les modalités de dépôt des candidatures et des offres sont précisées dans le règlement de consultation.
Validation des dossiers de candidature:
Après examen de la conformité administrative du dossier de candidature, le CEA procédera à l'analyse et à la validation des candidatures conformément aux critères de jugement des candidatures suivants:
— capacité professionnelle: aptitude technique, organisation en matière d’assurance qualité, références sur des fournitures similaires,
— capacité financière.
Objet Champ d'application du marché
Brève description:
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semiconducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZnS, Al2O3, SiOx, SiN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semiconducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZnS, Al2O3, SiOx, SiN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Durée de l'accord: 12 mois Lieu d'exécution
Site principal ou lieu d'exécution:
CEA/Grenoble.
Conditions d'accès réglementées.
Informations juridiques, économiques, financières et techniques Conditions de participation
Habilitation à exercer l'activité professionnelle:
Le candidat fournira à l’appui de sa candidature:
— le formulaire DC1 (Lettre de candidature et habilitation du mandataire par ses cotraitants) ou équivalent,
— le formulaire DC2 (Déclaration du candidat individuel ou du membre du groupement) ou équivalent.
Ces formulaires sont disponibles sur le site Internet suivant:
— la copie du ou des jugements prononcés s’il est en redressement judiciaire ou dans une procédure étrangère équivalente,
— lorsqu’il appartient à un groupe, une attestation certifiant de son autonomie commerciale et de sa situation de concurrence vis à vis des autres entreprises du groupe.
Les opérateurs économiques ont l’obligation de déposer leurs candidatures et offres par voie électronique sur PLACE, sauf dans les cas prévus par l’article 41-II du décret «marchés publics».
Le candidat peut présenter sa candidature sous la forme d’un Document unique de marché européen (DUME), en lieu et place des documents mentionnés à l’article 48 du décret n
Procédure
Base juridique: 32014L0024
Heure limite de réception des offres: 16:00
Langues dans lesquelles les offres ou les demandes de participation peuvent être présentées: anglais 🗣️
français 🗣️
Période de validité de l'offre: 4 mois
Date d'ouverture des offres: 2019-04-29 📅
Heure d'ouverture des offres: 14:00
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
Pour obtenir le dossier de consultation des entreprises, le candidat devra le télécharger via la plate-forme de dématérialisation des procédures de passation des marchés du CEA accessible sur l’URL suivante: https://www.marches-publics.gouv.fr
Les téléchargements de dossiers de consultation devront préciser la référence suivante:AOO-190057-CMF
Modalités de transmission des candidatures et des offres:
Les modalités de dépôt des candidatures et des offres sont précisées dans le règlement de consultation.
Validation des dossiers de candidature:
Après examen de la conformité administrative du dossier de candidature, le CEA procédera à l'analyse et à la validation des candidatures conformément aux critères de jugement des candidatures suivants:
— capacité professionnelle: aptitude technique, organisation en matière d’assurance qualité, références sur des fournitures similaires,
— capacité financière.
Informations complémentaires Organe de révision
Nom: Tribunal administratif de Grenoble
Adresse postale: 2 place de Verdun
Commune postale: Grenoble
Code postal: 38000
Pays: France 🇫🇷
Téléphone: +33 476429000📞
Courrier électronique: ta-grenoble@juradm.fr📧
Fax: +33 476422269 📠
Adresse Internet: http://grenoble.tribunal-administratif.fr/🌏 Service auprès duquel des informations sur la procédure de recours peuvent être obtenues Identique à : Organe de révision
Source: OJS 2019/S 064-148632 (2019-03-27)
Avis d'attribution de marché (2020-01-13) Objet Champ d'application du marché
Brève description:
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semi-conducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZNS, AL2O3, SIOX, SIN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semi-conducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZNS, AL2O3, SIOX, SIN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Valeur totale du marché: 1 EUR 💰
Métadonnées de l'avis
Type de document: Avis d'attribution de marché
Procédure
Type de soumission: Sans objet
Pouvoir adjudicateur Identité
Nom du pouvoir adjudicateur: CEA Grenoble
Référence Dates
Date d'envoi: 2020-01-13 📅
Date de publication: 2020-01-14 📅
Identifiants
Numéro d'avis: 2020/S 009-016562
Se réfère à l'avis: 2019/S 064-148632
Numéro JO-S: 9
Informations complémentaires
Il a été indiqué 1,00 à la rubrique «montant» uniquement parce que le champ est bloquant pour la publication de l'avis d'attribution et que le CEA ne peut pas indiquer le véritable prix de l'équipement sans violer le secret des affaires.
Objet Champ d'application du marché
Brève description:
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semi-conducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZNS, AL2O3, SIOX, SIN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semi-conducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZNS, AL2O3, SIOX, SIN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Informations complémentaires:
Il a été indiqué 1,00 à la rubrique «montant» uniquement parce que le champ est bloquant pour la publication de l'avis d'attribution et que le CEA ne peut pas indiquer le véritable prix de l'équipement sans violer le secret des affaires.
Lieu d'exécution
Site principal ou lieu d'exécution: CEA Grenoble.
Procédure Critères d'attribution
Critère de qualité (nom): Qualité technique de l'offre
Critère de qualité (pondération): 45
Critère de qualité (nom): Délais
Critère de qualité (pondération): 5
Prix (pondération): 50
Attribution du marché
Date de conclusion du contrat: 2019-08-22 📅
Nom: Microtest
Commune postale: Uchaux
Pays: France 🇫🇷 Vaucluse
🏙️
Valeur totale du marché: 1 EUR 💰
Informations sur les appels d'offres
Nombre d'offres reçues: 2
Référence Informations complémentaires
Modalités de consultation du marché: un exemplaire du marché est disponible auprès du CEA dont les coordonnées sont précisées à la section I) du présent avis. La consultation s’effectue dans le respect des secrets protégés par la loi.