Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semiconducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZnS, Al2O3, SiOx, SiN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2019-04-26.
L'appel d'offres a été publié le 2019-03-27.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Objet Champ d'application du marché
Titre:
“Fourniture d’un équipement de dépôt de couche minces par couche atomique de type «ALD» (Atomic Layer Deposition)
AOO-190057-CMF”
Produits/services: Machines et appareils microélectroniques et microsystèmes📦
Brève description:
“Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semiconducteurs II-VI...”
Brève description
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semiconducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZnS, Al2O3, SiOx, SiN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
1️⃣
Lieu d'exécution: Isère🏙️
Site principal ou lieu d'exécution: CEA/Grenoble.
Conditions d'accès réglementées.
Description du marché:
“Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semiconducteurs II-VI...”
Description du marché
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semiconducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZnS, Al2O3, SiOx, SiN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Afficher plus Critères d'attribution
Le prix n'est pas le seul critère d'attribution et tous les critères ne sont énoncés que dans les documents de passation de marchés
Durée du contrat, de l'accord-cadre ou du système d'acquisition dynamique
Le délai ci-dessous est exprimé en nombre de mois.
Description
Durée de l'accord: 12
Informations sur les variantes
Les variantes sont acceptées ✅
Informations juridiques, économiques, financières et techniques Conditions de participation
Liste et brève description des conditions:
“Le candidat fournira à l’appui de sa candidature:
— le formulaire DC1 (Lettre de candidature et habilitation du mandataire par ses cotraitants) ou...”
Liste et brève description des conditions
Le candidat fournira à l’appui de sa candidature:
— le formulaire DC1 (Lettre de candidature et habilitation du mandataire par ses cotraitants) ou équivalent,
— le formulaire DC2 (Déclaration du candidat individuel ou du membre du groupement) ou équivalent.
Ces formulaires sont disponibles sur le site Internet suivant:
http://www.economie.gouv.fr/daj/formulaires-declaration-du-candidat
— la copie du ou des jugements prononcés s’il est en redressement judiciaire ou dans une procédure étrangère équivalente,
— lorsqu’il appartient à un groupe, une attestation certifiant de son autonomie commerciale et de sa situation de concurrence vis à vis des autres entreprises du groupe.
Les opérateurs économiques ont l’obligation de déposer leurs candidatures et offres par voie électronique sur PLACE, sauf dans les cas prévus par l’article 41-II du décret «marchés publics».
Le candidat peut présenter sa candidature sous la forme d’un Document unique de marché européen (DUME), en lieu et place des documents mentionnés à l’article 48 du décret n 2016-360 du 25.3.2016 relatif aux marchés publics, téléchargeable à l’adresse suivante: https://ec.europa.eu/tools/espd/filter?lang=fr
Afficher plus Situation économique et financière
Critères de sélection énoncés dans les documents de passation de marchés
Capacité technique et professionnelle
Critères de sélection énoncés dans les documents de passation de marchés
Procédure Type de procédure
Procédure ouverte
Informations administratives
Délai de réception des offres ou des demandes de participation: 2019-04-26
16:00 📅
Langues dans lesquelles les offres ou les demandes de participation peuvent être présentées: anglais 🗣️
Langues dans lesquelles les offres ou les demandes de participation peuvent être présentées: français 🗣️
Le délai ci-dessous est exprimé en nombre de mois.
Délai minimum pendant lequel le soumissionnaire doit maintenir l'offre: 4
Conditions d'ouverture des offres: 2019-04-29
14:00 📅
“Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés...”
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
Le présent avis et/ou les documents de la consultation doivent être retirés sur https://www.marches-publics.gouv.fr.
Modalités d’obtention du dossier de consultation:
Pour obtenir le dossier de consultation des entreprises, le candidat devra le télécharger via la plate-forme de dématérialisation des procédures de passation des marchés du CEA accessible sur l’URL suivante: https://www.marches-publics.gouv.fr
Les téléchargements de dossiers de consultation devront préciser la référence suivante:AOO-190057-CMF
Modalités de transmission des candidatures et des offres:
Les modalités de dépôt des candidatures et des offres sont précisées dans le règlement de consultation.
Validation des dossiers de candidature:
Après examen de la conformité administrative du dossier de candidature, le CEA procédera à l'analyse et à la validation des candidatures conformément aux critères de jugement des candidatures suivants:
— capacité professionnelle: aptitude technique, organisation en matière d’assurance qualité, références sur des fournitures similaires,
— capacité financière.
Afficher plus Organe de révision
Nom: Tribunal administratif de Grenoble
Adresse postale: 2 place de Verdun
Commune postale: Grenoble
Code postal: 38000
Pays: France 🇫🇷
Téléphone: +33 476429000📞
Courrier électronique: ta-grenoble@juradm.fr📧
Fax: +33 476422269 📠
URL: http://grenoble.tribunal-administratif.fr/🌏 Service auprès duquel des informations sur la procédure de recours peuvent être obtenues
Nom: Tribunal administratif de Grenoble
Adresse postale: 2 place de Verdun
Commune postale: Grenoble
Code postal: 38000
Pays: France 🇫🇷
Téléphone: +33 476429000📞
Courrier électronique: ta-grenoble@juradm.fr📧
Fax: +33 476422269 📠
URL: http://grenoble.tribunal-administratif.fr/🌏
Source: OJS 2019/S 064-148632 (2019-03-27)
Avis d'attribution de marché (2020-01-13) Pouvoir adjudicateur Nom et adresse
Nom: CEA Grenoble
Objet Champ d'application du marché
Brève description:
“Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semi-conducteurs...”
Brève description
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semi-conducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZNS, AL2O3, SIOX, SIN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Afficher plus
Valeur totale du marché (hors TVA): EUR 1 💰
Description
Site principal ou lieu d'exécution: CEA Grenoble.
Conditions d'accès réglementées.
Description du marché:
“Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semi-conducteurs...”
Description du marché
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt pour ses activités de recherche et développement en optique et photonique sur les semi-conducteurs II-VI et III-V. La mise au point de ces couches nécessite un équipement multi-matériaux (ZNS, AL2O3, SIOX, SIN). Ces films seront réalisés par des techniques de dépôt de type ALD (Atomic Layer Deposition).
Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium ou des substrats II-VI et III-V jusqu'à 200 mm de diamètre. Ce bâti doit permettre de réaliser un plasma de préparation de surface et de fonctionner en mode PEALD (Plasma Assisted Atomic Layer Deposition). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Afficher plus Critères d'attribution
Critère de qualité (nom): Qualité technique de l'offre
Critère de qualité (pondération): 45
Critère de qualité (nom): Délais
Critère de qualité (pondération): 5
Prix (pondération): 50
Description
Informations complémentaires:
“Il a été indiqué 1,00 à la rubrique «montant» uniquement parce que le champ est bloquant pour la publication de l'avis d'attribution et que le CEA ne peut...”
Informations complémentaires
Il a été indiqué 1,00 à la rubrique «montant» uniquement parce que le champ est bloquant pour la publication de l'avis d'attribution et que le CEA ne peut pas indiquer le véritable prix de l'équipement sans violer le secret des affaires.
Procédure Informations administratives
Publication précédente concernant cette procédure: 2019/S 064-148632
Attribution du marché
1️⃣
Numéro de contrat: 4000850167 / P7T38
Titre:
“Fourniture d’un équipement de dépôt de couche minces par couche atomique de type «ALD» (Atomic Layer Deposition)”
Date de conclusion du contrat: 2019-08-22 📅
Informations sur les appels d'offres
Nombre d'offres reçues: 2
Nombre d'offres reçues de PME: 2
Nombre d'offres reçues de soumissionnaires d'autres États membres de l'UE: 1
Nombre d'offres reçues par voie électronique: 2
Nom et adresse du contractant
Nom: Microtest
Commune postale: Uchaux
Pays: France 🇫🇷
Région: Vaucluse🏙️
Le contractant est une PME ✅ Information sur la valeur du contrat/lot (hors TVA)
Valeur totale du contrat/lot: EUR 1 💰
“Modalités de consultation du marché: un exemplaire du marché est disponible auprès du CEA dont les coordonnées sont précisées à la section I) du présent...”
Modalités de consultation du marché: un exemplaire du marché est disponible auprès du CEA dont les coordonnées sont précisées à la section I) du présent avis. La consultation s’effectue dans le respect des secrets protégés par la loi.
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Source: OJS 2020/S 009-016562 (2020-01-13)