Dans le cadre de ses activités de recherche et développement en microélectronique, le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt type ALD (Atomic Layer Deposition) pour les matériaux lithiés. La mise au point de ces couches nécessite un équipement intégré avec une boîte à gants permettant la réalisation au sein de la même chambre de couches lithiés et de couches oxydes/nitrures. L’équipement doit être compatible avec l’utilisation des précurseurs lithiés. Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium jusqu'à 200 mm et compatibles avec des substrats structurés (fort aspect ratio). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité microélectronique.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2019-06-27.
L'appel d'offres a été publié le 2019-05-24.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Avis de marché (2019-05-24) Objet Champ d'application du marché
Titre: Machines et appareils microélectroniques
Brève description:
Dans le cadre de ses activités de recherche et développement en microélectronique, le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt type ALD (Atomic Layer Deposition) pour les matériaux lithiés. La mise au point de ces couches nécessite un équipement intégré avec une boîte à gants permettant la réalisation au sein de la même chambre de couches lithiés et de couches oxydes/nitrures. L’équipement doit être compatible avec l’utilisation des précurseurs lithiés. Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium jusqu'à 200 mm et compatibles avec des substrats structurés (fort aspect ratio). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité microélectronique.
Dans le cadre de ses activités de recherche et développement en microélectronique, le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt type ALD (Atomic Layer Deposition) pour les matériaux lithiés. La mise au point de ces couches nécessite un équipement intégré avec une boîte à gants permettant la réalisation au sein de la même chambre de couches lithiés et de couches oxydes/nitrures. L’équipement doit être compatible avec l’utilisation des précurseurs lithiés. Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium jusqu'à 200 mm et compatibles avec des substrats structurés (fort aspect ratio). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité microélectronique.
Métadonnées de l'avis
Langue originale: français 🗣️
Type de document: Avis de marché
Nature du marché: Fournitures
Réglementation: Union européenne
Vocabulaire commun pour les marchés publics (CPV)
Code: Machines et appareils microélectroniques📦 Lieu d'exécution
Région NUTS: Isère
🏙️
Procédure
Type de procédure: Procédure ouverte
Type de soumission: Soumission pour tous les lots
Critères d'attribution
Offre la plus économique
Pouvoir adjudicateur Identité
Pays: France 🇫🇷
Type de pouvoir adjudicateur: Organisme de droit public
Nom du pouvoir adjudicateur: CEA/Grenoble
Adresse postale: 17 rue des Martyrs
Code postal: 38054
Commune postale: Grenoble Cedex 9
Contact
Adresse Internet: http://www.cea.fr🌏
Courrier électronique: estelle.bastien@cea.fr📧
Téléphone: +33 438780525📞
Fax: +33 438785060 📠
URL des documents: https://www.marches-publics.gouv.fr🌏
URL pour la participation: https://www.marches-publics.gouv.fr🌏
Référence Dates
Date d'envoi: 2019-05-24 📅
Date limite de soumission: 2019-06-27 📅
Date de publication: 2019-05-28 📅
Date de début: 2019-07-15 📅
Date de fin: 2019-12-20 📅
Identifiants
Numéro d'avis: 2019/S 102-246363
Numéro JO-S: 102
Informations complémentaires
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
Le présent avis et/ou les documents de la consultation peuvent être retirés sur https://www.marches-publics.gouv.fr.
Modalités d’obtention du dossier de consultation:
Pour obtenir le dossier de consultation des entreprises, le candidat devra le télécharger via la plate-forme de dématérialisation des procédures de passation des marchés du CEA accessible sur l’intenet suivante: https://www.marches-publics.gouv.fr
Les demandes de dossiers de consultation devront préciser la référence suivante: 190310-EB
Modalités de transmission des candidatures et des offres:
Les modalités de dépôt des candidatures et des offres sont précisées dans le règlement de consultation.
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
Pour obtenir le dossier de consultation des entreprises, le candidat devra le télécharger via la plate-forme de dématérialisation des procédures de passation des marchés du CEA accessible sur l’intenet suivante: https://www.marches-publics.gouv.fr
Les demandes de dossiers de consultation devront préciser la référence suivante: 190310-EB
Modalités de transmission des candidatures et des offres:
Les modalités de dépôt des candidatures et des offres sont précisées dans le règlement de consultation.
Objet Champ d'application du marché
Brève description:
Dans le cadre de ses activités de recherche et développement en microélectronique, le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt type ALD (Atomic Layer Deposition) pour les matériaux lithiés. La mise au point de ces couches nécessite un équipement intégré avec une boite à gants permettant la réalisation au sein de la même chambre de couches lithiés et de couches oxydes/nitrures. L’équipement doit être compatible avec l’utilisation des précurseurs lithiés. Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium jusqu'à 200 mm et compatibles avec des substrats structurés (fort aspect ratio). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité microélectronique.
Dans le cadre de ses activités de recherche et développement en microélectronique, le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de dépôt type ALD (Atomic Layer Deposition) pour les matériaux lithiés. La mise au point de ces couches nécessite un équipement intégré avec une boite à gants permettant la réalisation au sein de la même chambre de couches lithiés et de couches oxydes/nitrures. L’équipement doit être compatible avec l’utilisation des précurseurs lithiés. Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium jusqu'à 200 mm et compatibles avec des substrats structurés (fort aspect ratio). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité microélectronique.
Informations juridiques, économiques, financières et techniques Conditions de participation
Habilitation à exercer l'activité professionnelle:
Le candidat fournit à l'appui de sa candidature: 3/5
— le formulaire DC1 (Lettre de candidature et habilitation du mandataire par ses cotraitants) ou une lettre de candidature signée par une personne habilitée à engager le candidat ou habilitant le mandataire d’un groupement à représenter le groupement accompagnée d'une attestation sur l'honneur contenant l'ensemble des informations demandées à la page 3 de ce formulaire,
— le formulaire DC1 (Lettre de candidature et habilitation du mandataire par ses cotraitants) ou une lettre de candidature signée par une personne habilitée à engager le candidat ou habilitant le mandataire d’un groupement à représenter le groupement accompagnée d'une attestation sur l'honneur contenant l'ensemble des informations demandées à la page 3 de ce formulaire,
— le formulaire DC2 (Déclaration du candidat individuel ou du membre du groupement) (ou équivalent).
Ces formulaires sont disponibles sur le site Internet suivant:
— lorsqu’il appartient à un groupe, une attestation certifiant de son autonomie commerciale et de sa situation de concurrence vis-à-vis des autres entreprises du groupe.
Procédure
Base juridique: 32014L0024
Heure limite de réception des offres: 12:00
Langues dans lesquelles les offres ou les demandes de participation peuvent être présentées: anglais 🗣️
français 🗣️
Date d'ouverture des offres: 2019-06-27 📅
Heure d'ouverture des offres: 12:00
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
Pour obtenir le dossier de consultation des entreprises, le candidat devra le télécharger via la plate-forme de dématérialisation des procédures de passation des marchés du CEA accessible sur l’intenet suivante: https://www.marches-publics.gouv.fr
Les demandes de dossiers de consultation devront préciser la référence suivante: 190310-EB
Modalités de transmission des candidatures et des offres:
Les modalités de dépôt des candidatures et des offres sont précisées dans le règlement de consultation.
Informations complémentaires Organe de révision
Nom: Tribunal administratif de Grenoble
Adresse postale: 2 place de Verdun
Commune postale: Grenoble
Code postal: 38000
Pays: France 🇫🇷
Téléphone: +33 476429000📞
Courrier électronique: ta-grenoble@juradm.fr📧
Fax: +33 476422269 📠
Adresse Internet: http://grenoble.tribunal-administratif.fr/🌏
Informations sur les délais d'introduction des recours:
Le référé précontractuel peut être introduit depuis le début de la procédure de passation jusqu’à la signature du marché.
Le référé contractuel peut être introduit dans les conditions des articles L. 551-13 et suivants du code de justice administrative.
Le recours en contestation de la validité du marché par un tiers peut être intenté dans un délai de 2 mois à compter des mesures de publicité appropriées.
Service auprès duquel des informations sur la procédure de recours peuvent être obtenues
Nom: Greffe tribunal administratif de Grenoble
Source: OJS 2019/S 102-246363 (2019-05-24)
Avis d'attribution de marché (2019-09-27) Objet Champ d'application du marché
Brève description:
Dans le cadre de ses activités de recherche et développement en microélectronique, le CEA-LETI souhaitait acquérir un équipement de dépôt type ALD (AtomicLayer Deposition) pour les matériaux lithiés. La mise au point de ces couches nécessite un équipement intégré avec une boite à gants permettant la réalisation au sein de la même chambre de couches lithiés et de couches oxydes/nitrures. L’équipement doit être compatible avec l’utilisation des précurseurs lithiés. Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium jusqu’à 200 mm et compatibles avec des substrats structurés (fort aspect ratio). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité microélectronique.
Dans le cadre de ses activités de recherche et développement en microélectronique, le CEA-LETI souhaitait acquérir un équipement de dépôt type ALD (AtomicLayer Deposition) pour les matériaux lithiés. La mise au point de ces couches nécessite un équipement intégré avec une boite à gants permettant la réalisation au sein de la même chambre de couches lithiés et de couches oxydes/nitrures. L’équipement doit être compatible avec l’utilisation des précurseurs lithiés. Cet équipement doit être capable de traiter des substrats de silicium jusqu’à 200 mm et compatibles avec des substrats structurés (fort aspect ratio). Il doit être compatible avec une salle blanche de qualité microélectronique.
Valeur totale du marché: 1 EUR 💰
Métadonnées de l'avis
Type de document: Avis d'attribution de marché
Procédure
Type de soumission: Sans objet
Référence Dates
Date d'envoi: 2019-09-27 📅
Date de publication: 2019-10-01 📅
Identifiants
Numéro d'avis: 2019/S 189-459263
Se réfère à l'avis: 2019/S 102-246363
Numéro JO-S: 189
Informations complémentaires
Il a été indiqué 1.00 à la rubrique «montant» uniquement parce que le champ est bloquant pour la publication de l'avis d'attribution et que le CEA ne peut pas indiquer le véritable prix de l'équipement sans violer le secret des affaires.
Objet Champ d'application du marché
Il a été indiqué 1.00 à la rubrique «montant» uniquement parce que le champ est bloquant pour la publication de l'avis d'attribution et que le CEA ne peut pas indiquer le véritable prix de l'équipement sans violer le secret des affaires.
Procédure Critères d'attribution
Critère de qualité (nom): Qualité technique de l'offre
Critère de qualité (pondération): 50
Critère de qualité (nom): Délais
Critère de qualité (pondération): 5
Prix (pondération): 45
Attribution du marché
Date de conclusion du contrat: 2019-09-26 📅
Nom: Picosun Oy
Commune postale: Espoo
Pays: Finlande 🇫🇮
Valeur totale du marché: 1 EUR 💰
Informations sur les appels d'offres
Nombre d'offres reçues: 2
Pouvoir adjudicateur Contact
Point de contact: Madame Estelle Bastien
Informations complémentaires Service auprès duquel des informations sur la procédure de recours peuvent être obtenues
Nom: Greffe du tribunal administratif de Grenoble
Source: OJS 2019/S 189-459263 (2019-09-27)