Le CEA-LETI recherche un réacteur de dépôt de films de tantale et nitrure de tantale (Ta-TaN) par pulvérisation PVD, à installer sur une de ses plates-formes Applied Endura 300 mm. Le réacteur devra être connecté à un des ports libres du système Applied Endura et traiter des plaques de 300 mm de diamètre. L’équipement devra être entièrement automatique.
Il sera installé dans les salles blanches microélectroniques du CEA-LETI où il sera utilisé 7 j sur 7 et 24 h sur 24.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2018-04-20.
L'appel d'offres a été publié le 2018-03-21.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Avis de marché (2018-03-21) Objet Champ d'application du marché
Titre: Machines et appareils microélectroniques
Numéro de référence: AOO-180178-CMF
Brève description:
“Le CEA-LETI recherche un réacteur de dépôt de films de tantale et nitrure de tantale (Ta-TaN) par pulvérisation PVD, à installer sur une de ses...”
Brève description
Le CEA-LETI recherche un réacteur de dépôt de films de tantale et nitrure de tantale (Ta-TaN) par pulvérisation PVD, à installer sur une de ses plates-formes Applied Endura 300 mm. Le réacteur devra être connecté à un des ports libres du système Applied Endura et traiter des plaques de 300 mm de diamètre. L’équipement devra être entièrement automatique.
Afficher plus Métadonnées de l'avis
Langue originale: français 🗣️
Type de document: Avis de marché
Nature du marché: Fournitures
Réglementation: Union européenne, avec participation des pays de l'AMP
Vocabulaire commun pour les marchés publics (CPV)
Code: Machines et appareils microélectroniques📦 Lieu d'exécution
Région NUTS: Isère🏙️
Procédure
Type de procédure: Procédure ouverte
Type de soumission: Soumission pour tous les lots
Critères d'attribution
Offre la plus économique
Référence Dates
Date d'envoi: 2018-03-21 📅
Date limite de soumission: 2018-04-20 📅
Date de publication: 2018-03-23 📅
Identifiants
Numéro d'avis: 2018/S 058-127816
Numéro JO-S: 58
Informations complémentaires
“Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés...”
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables.
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Source: OJS 2018/S 058-127816 (2018-03-21)
Avis d'attribution de marché (2019-01-22) Objet Champ d'application du marché
Brève description:
“Le CEA-LETI recherche un réacteur de dépôt de films de Tantale et Nitrure de Tantale (Ta-TaN) par pulvérisation PVD, à installer sur une de ses plate-formes...”
Brève description
Le CEA-LETI recherche un réacteur de dépôt de films de Tantale et Nitrure de Tantale (Ta-TaN) par pulvérisation PVD, à installer sur une de ses plate-formes Applied Endura 300 mm. Le réacteur devra être connecté à un des ports libres du système Applied Endura et traiter des plaques de 300 mm de diamètre. L’équipement devra être entièrement automatique.
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Valeur totale du marché: 1 EUR 💰
Métadonnées de l'avis
Type de document: Avis d'attribution de marché
Procédure
Type de soumission: Sans objet
Référence Dates
Date d'envoi: 2019-01-22 📅
Date de publication: 2019-01-25 📅
Identifiants
Numéro d'avis: 2019/S 018-037997
Se réfère à l'avis: 2018/S 058-127816
Numéro JO-S: 18
Informations complémentaires
“Il a été indiqué 1.00 à la rubrique «montant» uniquement parce que le champ est bloquant pour la publication de l'avis d'attribution et que le CEA ne peut...”
Il a été indiqué 1.00 à la rubrique «montant» uniquement parce que le champ est bloquant pour la publication de l'avis d'attribution et que le CEA ne peut pas indiquer le véritable prix de l'équipement sans violer le secret des affaires.
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Source: OJS 2019/S 018-037997 (2019-01-22)