Fourniture d’un équipement de gravure ionique réactive de matériaux diélectrique et d’alliages de GaN
Le CEA-LETI recherche un équipement de gravure ionique réactive de matériaux diélectrique et d’alliages de GaN pour le traitement de plaques de 200 mm de diamètre. L’équipement devra être entièrement automatique.
Il sera installé dans les salles blanches microélectroniques du CEA-LETI où il sera utilisé 7 j sur 7 et 24 h sur 24.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2018-02-07.
L'appel d'offres a été publié le 2018-01-04.
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Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2018-01-04
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Avis de marché
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| 2018-02-15
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Avis d'attribution de marché
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