Licences d'utilisation pour un logiciel de préparation de données pour la lithographie par faisceaux d'électrons
Dans le cadre de ses activité de recherche et développement en micro et nanotechnologies, le CEA-Leti souhaite faire l'acquisition de licences de logiciels de préparation de données pour la lithographie par faisceaux d'électrons.
Ce logiciel doit permettre la préparation de données pour la lithographie électronique à faisceau formé, à faisceau Gaussien, à multi-faisceaux.
Il devra en outre disposer d'une méthodologie et d'outils associés pour la calibration, ainsi que de modèles avancés permettant d'expliquer au mieux les processus physiques en jeu en lithographie électronique.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2017-09-11.
L'appel d'offres a été publié le 2017-07-24.
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Où ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2017-07-24
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Avis de marché
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| 2017-10-23
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Avis d'attribution de marché
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