Fourniture et maintenance d'un équipement Scanner 193 nm à immersion
Le CEA-LETI recherche pour ses activités Nanoélectronique un scanner de lithographie à 193 nanomètres en mode immersion.
L'équipement devra être interfacé avec une piste d'étalement/développement de résines et devra traiter de façon automatique des plaques de 300 mm de diamètre. Il devra atteindre des résolutions de 40 nanomètres pour des lignes/espaces et de 55 nanomètres pour des contacts.
Il sera installé dans les salles blanches Microélectroniques du CEA-LETI où il sera utilisé 7 jours sur 7 et 24 heures sur 24.
Le CEA retiendra un seul fournisseur pour la fourniture de l'équipement et sa maintenance.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2017-07-24.
L'appel d'offres a été publié le 2017-06-20.
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Historique des marchés publics
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Document |
| 2017-06-20
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Avis de marché
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