Fourniture d'un cluster 300MM de dépôts diélectriques SiO2, SiN et Silicium amorphe pour application FEND
Le CEA-LETI recherche un système multi-réacteurs de dépôts PECVD de matériaux diélectrique (SiO2, SiN, Silicium amorphe, …) pour le traitement de plaques de 300mm de diamètre. L'équipement devra être entièrement automatique et les réacteurs devront pouvoir travailler entre 250 et 550°C..
Il sera installé dans les salles blanches Microélectroniques du CEA-LETI où il sera utilisé 7 jours sur 7 et 24 heures sur 24.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2017-12-20.
L'appel d'offres a été publié le 2017-11-20.
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Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2017-11-20
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Avis de marché
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