2011-02-02Équipement de dépôt PVD pour la réalisation de l'empilement des couches actives de micro batteries sur substrat Si 200 mm (CEA/Grenoble)
Le CEA souhaite s'équiper d'un ensemble de chambres de dépôt PVD pour réalisations de l'empilement des couches actives de micro batteries sur substrat Si 200 mm. Cet ensemble de chambres devra permettre l'obtention de couches servant à la collection du courant (métal) ainsi que les matériaux d'électrodes et électrolyte des batteries. L'ensemble des chambres devront être connectées à une boîte à gants sous argon. Un dispositif devra permettre la réalisation de motifs pour chacune des couches (technologie …
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2011-02-01Ensemble de chambres de gravure RIE (CEA/Grenoble)
Le CEA souhaite s’équiper d’un ensemble de chambres de gravure RIE utilisées dans un procédé de fabrication de micro batteries sur substrats SI 200 mm. Les couches gravées seront de différents types: métal diélectrique, matériaux lithiés.
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2011-01-28Fourniture d'un équipement de sérigraphie pour des substrats 300 mm (CEA/Grenoble)
Le CEA-Leti souhaite s'équiper d'un équipement de sérigraphie pour le traitement de substrats de 300 millimètres de diamètre.
La compatibilité de l'équipement avec des substrats de 200 millimètres doit être présentée en option.
Les substrats traités par l'équipement de sérigraphie peuvent être de différents types (verre, silicium, silicium collé sur verre...).
Leur épaisseurs peuvent varier entre 50 micromètres et 2 millimètres (dans le cas de plaques silicium collées sur verre), avec une flèche de 500 …
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