Intitulé attribué au marché par le pouvoir adjudicateur: AOO -15/2006 Bâti de croissance. Bâti de croissance épitaxiale du type Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition (MPCVD) pour la réalisation de couches minces cristallines de diamant dopé au Bore.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2006-10-16.
L'appel d'offres a été publié le 2006-08-24.
Avis de marché (2006-08-21) Objet Champ d'application du marché
Titre: Diamants industriels
Texte intégral:
“Intitulé attribué au marché par le pouvoir adjudicateur: AOO -15/2006 Bâti de croissance. Bâti de croissance épitaxiale du type Microwave Plasma Chemical...”
Texte intégral
Intitulé attribué au marché par le pouvoir adjudicateur: AOO -15/2006 Bâti de croissance. Bâti de croissance épitaxiale du type Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition (MPCVD) pour la réalisation de couches minces cristallines de diamant dopé au Bore.
Afficher plus Lieu d'exécution
fr714 🏙️ Métadonnées de l'avis
Type de document: Avis de marché
Nature du marché: Marché de fournitures
Réglementation: Communautés européennes
Langue originale: français 🗣️
Procédure
Type de procédure: Procédure ouverte
Critères d'attribution
Offre la plus économique
Type de soumission: Soumission globale
Type de pouvoir adjudicateur: Organisme de droit public
Pouvoir adjudicateur Identité
Nom du pouvoir adjudicateur: CNRS délégation Alpes
Pays: France 🇫🇷 Contact
Adresse Internet: https://www.marchespublics-epst.org🌏
Référence Dates
Date de publication: 2006-08-24 📅
Date de réception: 2006-08-21 📅
Date d'envoi: 2006-08-21 📅
Date limite de soumission: 2006-10-16 📅
Identifiants
Numéro d'avis (ancien): 172431-2006
Numéro JO-S: 160/2006
Objet Vocabulaire commun pour les marchés publics (CPV)
Code: Diamants industriels📦
Source: OJS 2006/S 160-172431 (2006-08-21)