Acquisition, livraison, installation, mise en service, formation et garantie d'un réacteur de croissance pour la synthèse de film de diamant pour les besoins de l'esiee Paris

CCI Paris Ile-de-France

L'objet de cette consultation est l'acquisition, la livraison, l'installation, la mise en service, la formation et la garantie d'un réacteur de croissance de diamant par dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-onde, pour la croissance de films diamant pour la réalisation de micro-capteurs sur des substrats silicium, verre ou autres matériaux pour les besoins de l'ESIEE Paris. Les prestations sont réparties en 2 parties: une partie à traitée à prix global forfaitaire comprenant les prestations suivantes: l'acquisition, la livraison, l'installation, la mise en service et la garantie d'un réacteur de croissance complet pour le dépôt de couche de diamant intrinsèque (chambre de dépôt et système de contrôle).
La formation des utilisateurs. Une partie B traitée à bons de commande (sans mini et sans maxi) conformément à l'Art. 78 et 80 du décret 2016-360 du 25.3.2016 relatif aux marchés publics. Forme de marché: à bons de commande sans mini ni maxi. Attribution d'un marché unique.

Date limite

Le délai de réception des offres était de 2018-11-19. L'appel d'offres a été publié le 2018-10-17.

Fournisseurs

Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :

Qui ? Qu'est-ce que c'est ? Où ?
Historique des marchés publics
Date Document
2018-10-17 Avis de marché
2019-01-11 Avis d'attribution de marché
Avis de marché (2018-10-17)
Objet
Champ d'application du marché
Titre: Équipement de commande des processus industriels
Numéro de référence: 2018-Da-0127
Brève description:
L'objet de cette consultation est l'acquisition, la livraison, l'installation, la mise en service, la formation et la garantie d'un réacteur de croissance de diamant par dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-onde, pour la croissance de films diamant pour la réalisation de micro-capteurs sur des substrats silicium, verre ou autres matériaux pour les besoins de l'ESIEE Paris. Les prestations sont réparties en 2 parties: une partie à traitée à prix global forfaitaire comprenant les prestations suivantes: l'acquisition, la livraison, l'installation, la mise en service et la garantie d'un réacteur de croissance complet pour le dépôt de couche de diamant intrinsèque (chambre de dépôt et système de contrôle). La formation des utilisateurs. Une partie B traitée à bons de commande (sans mini et sans maxi) conformément à l'Art. 78 et 80 du décret 2016-360 du 25.3.2016 relatif aux marchés publics. Forme de marché: à bons de commande sans mini ni maxi. Attribution d'un marché unique.
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Métadonnées de l'avis
Langue originale: français 🗣️
Type de document: Avis de marché
Nature du marché: Fournitures
Réglementation: Union européenne, avec participation des pays de l'AMP
Vocabulaire commun pour les marchés publics (CPV)
Code: Équipement de commande des processus industriels 📦
Code CPV supplémentaire: Équipement de commande des processus industriels 📦
Lieu d'exécution
Région NUTS: Ile-de-France 🏙️

Procédure
Type de procédure: Procédure ouverte
Type de soumission: Soumission pour tous les lots
Critères d'attribution
Offre la plus économique

Pouvoir adjudicateur
Identité
Pays: France 🇫🇷
Type de pouvoir adjudicateur: Organisme de droit public
Nom du pouvoir adjudicateur: CCI Paris Île-de-France
Adresse postale: 47-49 rue de Tocqueville
Code postal: 75017
Commune postale: Paris
Contact
Adresse Internet: https://www.cci-paris-idf.fr 🌏
Courrier électronique: gestionnairesachats@cci-paris-idf.fr 📧
URL des documents: http://marches-publics.info 🌏
URL pour la participation: http://marches-publics.info 🌏

Référence
Dates
Date d'envoi: 2018-10-17 📅
Date limite de soumission: 2018-11-19 📅
Date de publication: 2018-10-20 📅
Identifiants
Numéro d'avis: 2018/S 203-461690
Numéro JO-S: 203
Informations complémentaires
Les dépôts de plis doivent être impérativement remis par voie dématérialisée. Pour retrouver cet avis intégral, accéder au DCE, poser des questions à l'acheteur, déposer un pli, allez sur http://marches-publics.info — La candidature est présentée soit sous la forme des formulaires Dc1 et Dc2 (disponibles gratuitement sur le site www.economie.gouv.fr), soit sous la forme d'un Document unique de marché européen (DUME). Le pouvoir adjudicateur impose la transmission des plis par voie électronique. Par conséquent, la transmission par voie papier n'est pas autorisée. La transmission des documents par voie électronique est effectuée sur le profil d'acheteur. Les modalités de transmission des plis par voie électronique sont définies dans le règlement de la consultation. Les candidats doivent présenter une offre entièrement conforme au cahier des charges (solution de base). Ils peuvent également présenter, conformément à l'article 58 du décret nº 2016-360 du 25.3.2016, une offre comportant des variantes qui doivent respecter les exigences minimales détaillées suivantes: les candidats sont autorisés à présenter en offre variante un matériel reconditionné à neuf ou de démonstration récent. Au-delà de ce périmètre de variabilité autorisé, les offres devront respecter l'ensemble des spécifications techniques du cahier des charges qui en constituent les éléments intangibles. Numéro de la consultation: 2018-da-0127.
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Objet
Champ d'application du marché
Brève description:
L'objet de cette consultation est l'acquisition, la livraison, l'installation, la mise en service, la formation et la garantie d'un réacteur de croissance de diamant par dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-onde, pour la croissance de films diamant pour la réalisation de micro-capteurs sur des substrats silicium, verre ou autres matériaux pour les besoins de l'ESIEE Paris. Les prestations sont réparties en 2 parties: une partie à traitée à prix global forfaitaire comprenant les prestations suivantes: l'acquisition, la livraison, l'installation, la mise en service et la garantie d'un réacteur de croissance complet pour le dépôt de couche de diamant intrinsèque (chambre de dépôt et système de contrôle).
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La formation des utilisateurs. Une partie B traitée à bons de commande (sans mini et sans maxi) conformément à l'Art. 78 et 80 du décret 2016-360 du 25.3.2016 relatif aux marchés publics. Forme de marché: à bons de commande sans mini ni maxi. Attribution d'un marché unique.
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Durée de l'accord: 48 mois
Nom du projet ou programme financé par l’UE: Bourse Erc - projet Neurodiam

Informations juridiques, économiques, financières et techniques
Conditions de participation
Situation économique et financière:
Déclaration concernant le chiffre d'affaires global et le chiffre d'affaires concernant les prestations objet du contrat, réalisées au cours des 3 derniers exercices disponibles.
Capacité technique et professionnelle:
— déclaration indiquant les effectifs moyens annuels du candidat et l'importance du personnel d'encadrement pour chacune des 3 dernières années,
— liste des principales prestations effectuées au cours des 3 dernières années, indiquant le montant, la date et le destinataire. Elles sont prouvées par des attestations du destinataire ou, à défaut, par une déclaration du candidat.
Exécution du marché
Conditions d'exécution du contrat:
Début d'exécution de l'accord-cadre à compter de la date de notification du contrat.prestations réglées par des prix forfaitaires et prix unitaires. Prix fermes. Avance de 30,0 % accordée dans les conditions prévues au contrat. Délai global de paiement des prestations de 30 jours. Modalités de financement des prestations: bourse ERC — projet Neurodiam.
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Procédure
Base juridique: 32014L0024
Heure limite de réception des offres: 12:00
Langues dans lesquelles les offres ou les demandes de participation peuvent être présentées: français 🗣️
Période de validité de l'offre: 4 mois
Date d'ouverture des offres: 2018-11-19 📅
Heure d'ouverture des offres: 12:30

Pouvoir adjudicateur
Identité
Numéro d'enregistrement national: 13001727000211
Contact
Adresse du profil d'acheteur: http://marches-publics.info 🌏
URL des documents: http://marches-publics.info 🌏

Informations complémentaires
Organe de révision
Nom: Tribunal administratif de Paris
Adresse postale: 7 rue de Jouy
Commune postale: Paris
Code postal: 75181
Pays: France 🇫🇷
Téléphone: +33 144594400 📞
Courrier électronique: greffe.ta-paris@juradm.fr 📧
Fax: +33 144594646 📠
Service auprès duquel des informations sur la procédure de recours peuvent être obtenues
Identique à : Organe de révision
Source: OJS 2018/S 203-461690 (2018-10-17)
Avis d'attribution de marché (2019-01-11)
Objet
Champ d'application du marché
Brève description:
L'objet de cette consultation est l'acquisition, la livraison, l'installation, la mise en service, la formation et la garantie d'un réacteur de croissance de diamant par dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-onde, pour la croissance de films diamant pour la réalisation de micro-capteurs sur des substrats silicium, verre ou autres matériaux pour les besoins de l'ESIEE Paris. Les prestations sont réparties en 2 parties: — une partie A traitée à prix global forfaitaire comprenant les prestations suivantes: —— l'acquisition, la livraison, l'installation, la mise en service et la garantie d'un réacteur de croissance complet pour le dépôt de couche de diamant intrinsèque (chambre de dépôt et système de contrôle), —— la formation des utilisateurs, — une partie B traitée à bons de commande (sans mini et sans maxi) conformément à l'art.78 et 80 du décret 2016-360 du 25.3.16 relatif aux marchés.
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Valeur totale du marché: 360 000 EUR 💰
Métadonnées de l'avis
Type de document: Avis d'attribution de marché

Procédure
Type de soumission: Sans objet

Référence
Dates
Date d'envoi: 2019-01-11 📅
Date de publication: 2019-01-16 📅
Identifiants
Numéro d'avis: 2019/S 011-021182
Se réfère à l'avis: 2018/S 203-461690
Numéro JO-S: 11
Informations complémentaires
La valeur indiquée est une estimation pour la durée totale de 4 ans

Objet
Champ d'application du marché
Brève description:
L'objet de cette consultation est l'acquisition, la livraison, l'installation, la mise en service, la formation et la garantie d'un réacteur de croissance de diamant par dépôt chimique en phase vapeur par plasma micro-onde, pour la croissance de films diamant pour la réalisation de micro-capteurs sur des substrats silicium, verre ou autres matériaux pour les besoins de l'ESIEE Paris.
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Les prestations sont réparties en 2 parties:
— une partie A traitée à prix global forfaitaire comprenant les prestations suivantes:
—— l'acquisition, la livraison, l'installation, la mise en service et la garantie d'un réacteur de croissance complet pour le dépôt de couche de diamant intrinsèque (chambre de dépôt et système de contrôle),
—— la formation des utilisateurs,
— une partie B traitée à bons de commande (sans mini et sans maxi) conformément à l'art.78 et 80 du décret 2016-360 du 25.3.16 relatif aux marchés.

Procédure
Critères d'attribution
Critère de coût (nom): Le prix n'est pas le seul critère d'attribution et tous les critères sont énoncés uniquement dans les documents du marché.
Critère de coût (pondération): 1

Attribution du marché
Date de conclusion du contrat: 2018-12-18 📅
Nom: Cornes Technologies Usa
Adresse postale: 780 Montague Expressway, Suite 506
Commune postale: California San Jose
Code postal: 95131
Pays: France 🇫🇷
Val-d’Oise 🏙️
Valeur totale du marché: 360 000 EUR 💰
Informations sur les appels d'offres
Nombre d'offres reçues: 1
Source: OJS 2019/S 011-021182 (2019-01-11)
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Région:
France Ile-de-France
Produits/services:
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