Chambre de dépôt pour l'équipement ALTACVD200B
Le CEA-Léti souhaite ajouter un réacteur de dépôt CVD de matériaux TCO (Oxyde Transparent Conducteur) sur l'équipement ALTATECH «AltaCVD» installé dans ses salles blanches. Ce réacteur devra permettre d'augmenter la capacité de traitement de plaques de 200 mm de diamètre sur cet équipement tout en maintenant les qualités des dépôts en termes d'uniformité, de conformité et de transparence.
Cet équipement sera installé en salle blanche sur la plateforme silicium du CEA-Léti où il sera utilisé sept 7 jours 7 et 24 heures sur 24.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2017-02-07.
L'appel d'offres a été publié le 2017-01-05.
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2017-01-05
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Avis de marché
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| 2017-03-06
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Avis d'attribution de marché
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