Brève description
Le CEA-LETI souhaite faire l'acquisition d'un système intégré de traitement des effluents gazeux et liquides pour un équipement multi-réacteurs de dépôt RP-CVD (Reduced Pressure — Chemical Vapor Deposition) pour l'épitaxie de matériaux de type Si, SiGe, SiGeC 300 mm.
Ce système doit être:
— compatible avec les contraintes du site dans lequel il sera implanté (sous sol),
— Communicant avec l'équipement principal qui se trouvera lui, en salle blanche
En outre, des systèmes de pompage seront nécessaires à son bon fonctionnement. Ceux-ci devront avoir les mêmes contraintes que le système d'abattement.
Ce système sera installé dans les locaux techniques connexes aux salles blanches Microélectroniques du CEA-LETI où il sera utilisé 7 jours sur 7 et 24 heures sur 24.