Brève description
Dans le cadre de ses activité de recherche et développement dans le domaine de la lithographie, le CEA-LETI souhaite louer des licences d'un logiciel de préparation de données pour la lithographie par faisceaux d'électrons.
Ce logiciel doit permettre la préparation de données pour la lithographie électronique à faisceau formé et à faisceau Gaussien, ainsi qu'à multi-faiscceaux de la société Mapper. Il devra en outre disposer d'une méthodologie et d'outils associés pour la calibration, ainsi que de modèles avancés permettant d'expliquer au mieux les processus physiques en jeu en lithographie électronique.