Fourniture de masques pour les opérations de photolithographie pour la microélectronique et les microsystèmes d'ESIEE Paris
La fourniture de masques pour les opérations de photolithographies pour la microélectronique et les microsystèmes d'ESIEE Paris. L'accord-cadre sera conclu avec un montant minimum de 30 000 EUR HT et un montant maximum de 64 000 EUR HT.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2016-10-14.
L'appel d'offres a été publié le 2016-09-26.
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Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2016-09-26
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Avis de marché
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