Four 200mm de dépôt LPCVD Si3N4 et nitruration
Le CEA/LETI souhaite faire l’acquisition d’un équipement de dépôt LPCVD Si3N4 et de nitruration sous NH3 pour plaques de silicium de 200 millimètres de diamètre.
Cet équipement devra être entièrement automatique et capable de traiter des lots de plus de 100 plaques à la fois.
L’équipement sera installé dans une salle blanche de qualité micro-électronique et devra en conséquence être conforme aux normes en vigueur dans ces environnements.
Il sera installé sur la plateforme silicium du CEA/LETI où il sera utilisé sept 7 jours 7 et 24 heures sur 24.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2016-03-11.
L'appel d'offres a été publié le 2016-01-29.
Qui ?
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Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2016-01-29
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Avis de marché
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| 2016-03-01
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Informations complémentaires
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| 2016-06-02
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Informations complémentaires
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