Acquisition d'un réacteur de dépôt PECVD
Acquisition et installation d'un équipement de dépôt chimique en phase vapeur assistée par plasma encore appelé PECVD (Plasma Enhanced Chimical Vapour Deposition) pour l'Institut des nanotechnologies de Lyon (INL) — UMR 5270 CNRS. Cet équipement sera sur la plateforme NanoLyon au sein du pôle photovoltaïque pour une utilisation de type «Recherche et développement».
Une formation de 4 utilisateurs est également prévue.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2016-11-03.
L'appel d'offres a été publié le 2016-09-19.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2016-09-19
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Avis de marché
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| 2016-12-21
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Avis d'attribution de marché
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