Un équipement de dépôt de matériaux III-V par MOCVD
Le CEA/LETI souhaite faire l’acquisition d’un équipement entièrement automatique de dépôt épitaxié de matériaux III-V (GaN, AlGaN, etc.) par MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition).
Cet équipement devra pouvoir réaliser les dépôts sur plaques de silicium de 150 et 200 millimètres de diamètre.
Il sera installé dans une salle blanche de qualité micro-électronique et devra en conséquence être conforme aux normes en vigueur dans ces environnements.
Il sera utilisé 7 jours sur 7 — 24 heures sur 24.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2015-05-04.
L'appel d'offres a été publié le 2015-03-20.
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Historique des marchés publics
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Document |
| 2015-03-20
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Avis de marché
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| 2015-05-07
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Informations complémentaires
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