Fourniture d'un équipement de dépôt de type ALD («Atomic Layer Deposition»)
Dans le cadre de ses programmes de recherche conjoints avec la société IPDIA, le CEA LETI souhaite faire l'acquisition d'un équipement de dépôt ALD («Atomic Layer Deposition») de couches et d'empilements de HfO2, Al2O3, TiN, sur plaques silicium de diamètre 150 mm et 200 mm.
Cet équipement devra comporter 1 chambre de type batch pour les dépôts ALD de TiN et une chambre de type batch pour les dépôts ALD de HfO2 et Al2O3 toutes les 2 connectées au même système de transfert des plaques.
L'équipement devra pouvoir traiter les plaques de façon entièrement automatique. Il sera installé dans les salles blanches d'IPDIA à Caen, où il fonctionnera 24 h/24 - 7 j/7. Il sera installé dans une salle blanche de qualité microélectronique et devra, en conséquence, être conforme aux normes en vigueur dans ces environnements.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2015-05-11.
L'appel d'offres a été publié le 2015-03-30.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2015-03-30
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Avis de marché
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| 2015-05-13
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Informations complémentaires
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| 2015-08-27
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Avis d'attribution de marché
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