Équipement de scattérométrie
Pour ses projets en lithographie avancée sur les noeuds technologiques 14 nm et inférieurs, le CEA/LETI souhaite acquérir un équipement de scattérometrie.
Installé en salle-blanche, l’équipement doit être adapté à la réalisation de mesure sur des wafers de 300 millimètres de diamètre de nature et d’épaisseurs variables.
Il doit permettre une mesure statistique de motifs répétés, en mode manuel ou en mode automatique, avec une capacité à détecter des variations asymétriques et non périodiques.
L’analyse des données expérimentales ainsi que la création de recette doivent pouvoir être réalisés à partir d’un serveur fourni avec l’équipement.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2015-08-05.
L'appel d'offres a été publié le 2015-06-18.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2015-06-18
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Avis de marché
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| 2015-11-09
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Avis d'attribution de marché
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