Équipement d’épitaxie 300 mm
Le CEA/LETI souhaite faire l’acquisition d’un équipement multi-réacteurs de dépôt RP-CVD (Reduced Pressure - Chemical Vapor Deposition) pour l’épitaxie de matériaux de type Si, SiGe, SiGeC, … dopés ou non.
L’équipement doit comporter:
— un réacteur monoplaque de nettoyage des plaques avant épitaxie,
— 2 réacteurs monoplaques d’épitaxie,
— la possibilité d’être équipé ultérieurement de 2 réacteurs supplémentaires d’épitaxie.
Il doit pouvoir traiter de façon automatique des plaques de 300 millimètres de diamètre.
Il sera installé dans les salles blanches Microélectroniques du CEA-LETI où il sera utilisé 7 jours sur 7 et 24 heures sur 24.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2015-05-11.
L'appel d'offres a été publié le 2015-03-27.
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Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2015-03-27
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Avis de marché
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| 2015-05-13
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Informations complémentaires
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