15.06.07 machine de dépôt par pulvérisation plasma magnétron — pour le compte du CNRS FEMTO
Acquisition d'une machine de dépôt de couches minces métalliques par pulvérisation cathodique. L'équipement devra permettre des dépôts à l'état de l'art avec des épaisseurs comprises entre 10 nm et 1 µm.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2016-01-07.
L'appel d'offres a été publié le 2015-11-13.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2015-11-13
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Avis de marché
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| 2016-02-26
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Avis d'attribution de marché
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