Fourniture de réacteurs de gravure plasma Silicium et plasma de matériaux III-V
Pour ses activités de Recherche en Photonique sur Silicium menées dans le cadre de l’Institut de Recherche Nanoelec de Grenoble (IRT Nanoelec), le CEA LETI souhaite faire l’acquisition d’un réacteur de gravure plasma Silicium et d’un réacteur de gravure plasma de matériaux III-V (InP, …), à rajouter sur ses plateformes 300mm actuelles LAM RESEARCH Versys 2300 dédiées pour l’une aux dépôt FEOL et l’autre aux dépôts BEOL.
L’ajout de ces 2 réacteurs nécessite le déplacement d’un réacteur actuellement en place sur l’une des 2 plateformes Versys 2300 (FEOL), vers l’autre plateforme (BEOL).
L’une des plateformes Versys 2300 FEOL doit par ailleurs être modifiée pour permettre le raccordement d’un système de transfert de plaques sous vide de marque ADIXEN dont dispose le CEA-LETI.
Tous ces systèmes seront installés dans la salle blanche 300mm du CEA LETI et seront utilisés 7 jours/7.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2014-07-28.
L'appel d'offres a été publié le 2014-06-16.
Qui ?
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Historique des marchés publics
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Document |
| 2014-06-16
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Avis de marché
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| 2014-07-28
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Informations complémentaires
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