Fourniture d'un système de nano lithographie électronique pouvant accommoder des plaquettes de 6 pouces
L'équipement souhaité, de conception dédiée à la nano-lithographie électronique, sera utilisé pour les projets de la plateforme de technologie nécessitant la réalisation de motifs de lithographie par écriture directe par faisceau d'électrons. Il sera principalement destiné aux procédés de lithographie pour la réalisation de dispositifs optoélectroniques, de tampons maîtres pour le procédés de nano imprinting et pour la réalisation de masques pour l'épitaxie sélective pour lesquels il permettra de réaliser des structures de taille nanométrique dans des résines commerciales standard sur des substrats conducteurs, semi-conducteurs ou isolants.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2015-01-15.
L'appel d'offres a été publié le 2014-12-02.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2014-12-02
|
Avis de marché
|
| 2015-03-27
|
Avis d'attribution de marché
|