Fourniture d'un parc de 3 machines plasma, dépôt PECVD et gravure sèche ICP/RIE pouvant accommoder des plaquettes de 200 mm
Le marché porte sur l'acquisition pour l'Institut Lafayette d'un parc cohérent de 2 outils neufs de gravure ionique réactive par technique plasma ICP (Inductively Coupled Plasma) et d'un outil neuf de dépôt chimique activé par plasma PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) pour les couches d'oxydes et nitrures de silicium.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2014-03-05.
L'appel d'offres a été publié le 2014-01-23.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2014-01-23
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Avis de marché
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| 2014-10-02
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Avis d'attribution de marché
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