Fourniture d’un équipement de dépôt PVD 300 mm de matériaux pour mémoires
Le CEA LETI souhaite faire l’acquisition d’un équipement single-wafer 300mm entièrement automatique, permettant d’effectuer la préparation de surface puis le dépôt de métaux et de chalcogénures par pulvérisation, pour ses développements de composants mémoires.
L’équipement devra disposer de plusieurs réacteurs de préparation de surface et de dépôt. Il devra comporter à minima un module de co-pulvérisation équipé de 5 cibles et un module de pulvérisation « single target ». Il devra pouvoir recevoir ultérieurement des réacteurs supplémentaires de pulvérisation « single target » et co-pulvérisation.
Il sera installé dans la salle blanche du CEA LETI et sera utilisé 7 jours/7.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2014-07-31.
L'appel d'offres a été publié le 2014-06-20.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2014-06-20
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Avis de marché
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| 2014-09-12
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Informations complémentaires
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| 2015-03-19
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Avis d'attribution de marché
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