Fourniture d’un équipement de dépôt de matériaux par plasma PVD. Date de livraison souhaitée: le LETI souhaite une livraison avant fin 2014
Le CEA-LETI souhaite acheter un équipement de dépôt de matériaux par plasma PVD pour ces activités de recherche et développement dans le domaine de l’éclairage et de la photonique.
Il servira au développement de couches minces métalliques formant les contacts ohmiques sur semi-conducteurs III-V.
Cet équipement doit être capable de traiter des fragments de substrats ou substrats entiers de saphir, silicium ou de verre de diamètre 2’’, 3’’, 4’’, 6’’ et 8’’ présentant des épaisseurs de 100 μm minimum à 5 millimètres maximum.
Ce bâti doit être entièrement automatisé et compatible avec une salle blanche de qualité micro-électronique.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2014-06-02.
L'appel d'offres a été publié le 2014-04-22.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2014-04-22
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Avis de marché
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| 2014-09-18
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Avis d'attribution de marché
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