Appareil de gravure par faisceau d’ions (équipement IBE) pour couches métalliques, isolantes et matériaux III-V. Date de livraison souhaitée: impérativement le 1.10.2015 au plus tard
Le CEA Leti souhaite acquérir un équipement de gravure sous vide par un faisceau ionique (acronyme anglo-saxon IBE pour Ion Beam Etching) pour la structuration de couches minces sur des dispositifs semi-conducteurs III-V. La dimension utile de gravure est au minimum de diamètre 150 mm, et au maximum de diamètre 200 mm. Cet usineur sera équipé d’une assistance chimique de gravure (CAIBE ou RIBE) et d’un système de fin d’attaque par SIMS.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2014-10-20.
L'appel d'offres a été publié le 2014-09-08.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2014-09-08
|
Avis de marché
|
| 2015-03-19
|
Avis d'attribution de marché
|