Acquisition d'un équipement de gravure par plasma réactif
Il est demandé un réacteur de gravure ionique réactive (RIE) qui sera utilisé pour la gravure de couches d'oxydes, de nitrures et de semiconducteurs sur des substrats plans, de diamètres compris entre 10 et 200mm (8 inches). Il permettra également d'utiliser 6 gaz réactifs (seuls ou mélangés).
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2014-09-19.
L'appel d'offres a été publié le 2014-07-23.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2014-07-23
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Avis de marché
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| 2014-11-20
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Avis d'attribution de marché
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