Fourniture, installation et mise en fonctionnement d'un équipement de croissance par CVD (Dépôt Chimique en Phase Vapeur) dédié à la synthèse de Graphene et de nitrure de Bore (hBN)
Le bâti de croissance par CVD/PECVD sera dédié à des activités de recherche sur la synthèse de graphene et de nitrure de bore hexagonal (hBN). Il doit être constitué d'une chambre à vide pour la croissance cristalline et d'une une chambre à vide supplémentaire et d'une boite à gants pour l'introduction des échantillons depuis l'atmosphère. Les chambres doivent être isolées entre elles de façon étanche et chacune doit être munie de son propre système de pompage. Les échantillons doivent pouvoir être transférés de l'une à l'autre. Le pompage de la chambre de croissance doit être assuré par une pompe turbomoléculaire à paliers magnétiques couplée à une pompe primaire lubrifiée par huile perfluorée. Le temps d'attente avant transfert de l'échantillon dans la chambre de croissance ne doit pas excéder cinq (5) minutes.
La chambre de croissance disposera des ports, hublots et caches nécessaires à la visualisation des transferts d'échantillons, à la caractérisation pendant la croissance des échantillons et à la lecture optique de la température du substrat.
La chambre de croissance doit être équipée d'un four pouvant chauffer uniformément jusqu'à 1 200 °C des échantillons dont la taille peut varier de quelques mm² à la taille d'une plaque de 4 pouces.
Compte-tenu de la surface des locaux dédiés à l'accueil de cet équipement, il est souhaitable que la surface au sol du bâti soit d'environ 2x1 m² (en tenant compte des baies de commande).
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2013-09-30.
L'appel d'offres a été publié le 2013-07-31.
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Historique des marchés publics
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Document |
| 2013-07-31
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Avis de marché
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