Fourniture d'un systeme de dépot chimique de couches atomiques assisté par plasma (ALD)
Le matériel est un réacteur de dépôt de couches atomiques (ALD) dédié au dépôt de matériaux isolants et conducteurs avec une haute conformité pour les applications optoélectroniques et microélectroniques.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2014-02-08.
L'appel d'offres a été publié le 2013-12-24.
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2013-12-24
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Avis de marché
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