Fourniture d’un équipement de lithographie e-beam Gaussien pour wafers de 200 à 300mm
Le CEA-LETI souhaite faire l’acquisition d’un équipement de lithographie e-beam gaussien.
Capable de traiter des plaques de 200 et 300 millimètres, il devra atteindre une tension d’accélération de 50 à 100 keV; pour une taille de faisceau électronique inférieure à 8 nm.
Afin d’atteindre un rendement de production acceptable pour le développement de procédés R&D, sa fréquence d'exposition devra impérativement au moins égaler 100 Mhz (le minimum exigé).
De plus, un système de sas à 10 plaques (permettant de conserver sous vide des plaques gravées avant leur développement) conforme aux exigences du LETI devra être proposé ; la solution technique pourra concerner le chargement automatique et/ou le système de pré alignement.
Cet équipement sera installé sur la plateforme silicium du CEA-Léti où il sera utilisé sept 7 jours 7 et 24 heures sur 24.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2013-11-22.
L'appel d'offres a été publié le 2013-10-10.
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
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Document |
| 2013-10-10
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Avis de marché
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| 2013-11-29
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Informations complémentaires
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