Fourniture d’un équipement de gravure silicium 300mm
Le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement de gravure plasma de couches épaisses de Silicium pour plaques de 300mm de diamètre. Cet équipement devra être capable de traiter des plaques de silicium ainsi que des plaques de silicium collées sur d'autres plaques de silicium ou de verre.
Il devra être entièrement automatique. Il sera installé dans les salles blanches du CEA-LETI et fonctionnera 24 heures sur24 - 7 jours sur 7.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2013-11-28.
L'appel d'offres a été publié le 2013-10-18.
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2013-10-18
|
Avis de marché
|