Fourniture d'un équipement de dépôt par couches atomiques (Atomic Layer Deposition (ALD))
La présente consultation a pour objet la fourniture, l'installation et la mise en fonctionnement d'un équipement de dépôt de couches minces par Atomic Layer Deposition (ALD).
L'équipement proposé doit permettre la réalisation de dépôt en mode thermique et en mode assisté plasma.
Le système de dépôt servira à la réalisation de dépôts uniformes sur structures planaires et sur structures à haut rapport de forme.
L'équipement doit permettre une large gamme de procédés et de température de dépôts
Il doit être compact, convivial à l'utilisation et évolutif.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2013-04-04.
L'appel d'offres a été publié le 2013-02-20.
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Historique des marchés publics
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Document |
| 2013-02-20
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Avis de marché
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