Equipement de gravure RIE ICP compatible avec substrats diamètre 200 mm et substrats format A4
Le CEA souhaite s’équiper d’un équipement de gravure RIE ICP compatible avec substrats diamètre 200 mm et substrats format A4 (21 x 29.7 cm). Cet équipement devra permettre la gravure sèche de couches inorganiques de quelques microns d’épaisseur contenant du lithium et servant d’électrolyte pour batterie. L’équipement sera compatible avec une installation en salle blanche et anhydre. Des références quantitatives sont demandées sur des équipements similaires en termes de matériaux gravés et performances associées.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2013-08-21.
L'appel d'offres a été publié le 2013-07-05.
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Historique des marchés publics
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Document |
| 2013-07-05
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Avis de marché
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