Dépôt de films d'oxyde de zinc épitaxié sur silicium fortement dopé
Le consortium du projet Novagains a besoin de faire réaliser une étude concernant le procédé technologique du dépôt sur silicium moncocristallin d'une couche de ZnO avec des caractéristiques spécifiées au marché. Cette étude comportera également la fourniture d'échantillons aux membres du consortium.
Il faudra donc fournir des couches de ZnO déposées sur Si par la technique de déposition par Laser Pulsé (PLD) avec des valeurs d'épaisseur et de conductivité bien spécifiées.
Les substrats de Silicium (Si) seront fournis par le consortium du projet Novagains. L'orientation cristalline est (100) et/ou (111).
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2013-11-12.
L'appel d'offres a été publié le 2013-09-27.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2013-09-27
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Avis de marché
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| 2014-04-10
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Avis d'attribution de marché
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