Acquisition d'un réacteur ultra-vide de dépôt de couches minces et d'héterostructures par ablation laser pulsée pour le laboratoire unité mixte de physique CNRS/Thales situé à Palaiseau
Acquisition d'un réacteur ultra-vide de dépôt de couches minces et d'héterostructures par ablation laser pulsée, la machine prendra place dans une salle blanche de classe 100 000.
Les 3 points critiques de cet équipement sont de permettre :
— l'élaboration d'hétérostructures de très haute qualité structurale à des température de dépôt très élevées (jusqu'à 1200°C),
— de contrôler la croissance par RHEED dans une large gamme de pression de croissance (jusqu'à 1 Torr)
— une croissance bien contrôlée d'échantillons biseaux de haute qualité, remplissant les conditions données ci-avant.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2014-01-29.
L'appel d'offres a été publié le 2013-12-16.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Où ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2013-12-16
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Avis de marché
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| 2014-02-17
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Avis d'attribution de marché
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