Fourniture, installation et mise en fonctionnement d'un équipement pour la lithographie laser à 3 dimensions par procédé d'absorption à 2 photons
L’équipement de lithographie laser à 3 dimensions par procédé d’absorption à deux photons doit permettre de réaliser des structures 3D complexes.
L'équipement doit pouvoir fonctionner 24 heures sur 24 et traiter automatiquement plusieurs substrats, disposés dans un carré de 100x100 mm².
L’équipement doit pouvoir insoler des nanostructures de grandes surfaces (plusieurs mm²). Le champ unitaire (sans raccord) doit être de 300x300x300 μm³ et la précision du positionnement entre deux champs successifs doit être de 100 nm.
L’équipement doit pouvoir travailler avec des échantillons transparents ou non et avec des matériaux photosensibles liquides ou solides.
L’équipement doit posséder un objectif pouvant travailler avec des résines liquides comme milieu d’immersion.
L’équipement doit permettre d’atteindre une résolution latérale de 150 nm associée à une résolution verticale de 0.6 μm.
L’équipement doit permettre de se repérer sur les grands échantillons et d’aligner deux niveaux de lithographie.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2012-05-21.
L'appel d'offres a été publié le 2012-03-22.
Fournisseurs
Les fournisseurs suivants sont mentionnés dans les décisions d'attribution ou dans d'autres documents relatifs aux marchés publics :
Qui ?
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Où ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2012-03-22
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Avis de marché
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| 2012-08-21
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Avis d'attribution de marché
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