Réalisation d'un système de lithographie par faisceau d'électrons
Système de lithographie par faisceau d'électrons.
Éléments constitutifs:
— une colonne optique,
— un système de pompage,
— un système de refroidissement,
— des porte-substrats haute précision x, y, z et tilt θ,
— un système de détecteurs d'électrons secondaires et un détecteur Inlens,
— un système de déflection du faisceau,
— un générateur de pattern ou système d'exposition,
— un système d'interférométrie laser pour le positionnement en x, y,
— possibilité de raccordement de champ,
— un logiciel de correction d'effet de proximité,
— un logiciel de pilotage de faisceau,
— un logiciel de génération de motif pour la lithographie 3d avec possibilité d'insoler des motifs à partir d'une image,
— diaphragmes.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2011-04-11.
L'appel d'offres a été publié le 2011-02-21.
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Où ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2011-02-21
|
Avis de marché
|