Fourniture d'une étuve pour wafer 200 mm silicium
Le CEA souhaite s'équiper d'une étuve pour wafer 200 mm silicium avec contrôle concentration en oxygène dans l'azote. Régulation en température de 100 deg C à 450 deg C.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2011-05-23.
L'appel d'offres a été publié le 2011-04-22.
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
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Document |
| 2011-04-22
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Avis de marché
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