Fourniture d'un système de lithographie optique
La consultation a pour objet la fourniture d'un système de lithographie optique comprenant un système d'insolation pour wafer 4" et un système de lithographie laser sans masque.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2011-09-29.
L'appel d'offres a été publié le 2011-08-18.
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2011-08-18
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Avis de marché
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