Fourniture d’un appareil de dépôt par faisceau d’ions (équipement IBS) de matériaux diélectriques
Le CEA LETI souhaite faire l’acquisition d’un équipement de dépôt par faisceau d’ions de matériaux diélectriques. Cette technique de dépôt sous vide est également appelée IBS ou IBD, respectivement les acronymes anglo-saxon de ion beam sputerring et ion beam deposition. Cet équipement est dédié à la réalisation de couches minces diélectriques sur des dispositifs semi-conducteurs CdHgTe pour l’imagerie infra-rouge. La dimension utile de dépôt est au minimum de diamètre 150 mm, et au maximum de diamètre 200 mm. Les types de matériaux déposés sont entre autres le ZnS, le SiO2, le ZnTe, ou le CdTe. Il sera installé en salle blanche, en mode "passe-cloison". La source ionique de type RF permet la génération d’un faisceau d’ions argon, krypton ou xénon, mais également d’un faisceau réactif d’u mélange argon et oxygène.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2011-11-02.
L'appel d'offres a été publié le 2011-09-20.
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Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2011-09-20
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Avis de marché
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