Equipement de dépôt de nitrure de silicium par LPCVD pour des wafers silicium de 200 millimètres de diamètre
Le CEA souhaite acheter un équipement de dépôt de nitrure de silicium par LPCVD (low-pressure chemical vapor deposition) pour des wafers de silicium de 200 millimètres de diamètre.
Date limite
Le délai de réception des offres était de 2011-05-23.
L'appel d'offres a été publié le 2011-04-22.
Qui ?
Qu'est-ce que c'est ?
Historique des marchés publics
| Date |
Document |
| 2011-04-22
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Avis de marché
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